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2018年江苏分类考试化学练习题精选
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2018年江苏分类考试化学模拟试题
【试题内容来自于相关分类考试网站和学校提供
GaAs是仅次于硅的一种新型化合物半导体材料 ,其性能比硅更优越。Ga位于周期表的第ⅢA族 ,As位于周期表的第ⅤA族。
(1 )Ga和As的最外层电子数分别是 。
(2 )GaAs中Ga和As的化合价分别是 。
(3 )第ⅣA族的C和Si也可以形成类似的化合物半导体材料 ,该化合物半导体材料的化学式可表示为 。
答案
(1 )3,5 (2 )+3 ,-3 (3 )SiC
解析
Ga位于周期表的第ⅢA族 ,As位于周期表的第ⅤA族 ,因此Ga和As的最外层电子数分别是3和5。Ga是金属元素 ,As是非金
属元素 ,因此GaAs中Ga和As的化合价分别是+3和-3。第ⅣA族的C和Si两元素 ,C元素的非金属性强 ,因此该化合物的化学
式为SiC。
有些科学家提出硅是 “21世纪的能源” ,这主要是由于作为半导体材料的硅在太阳能发电的过程中具有重要的作用。下列关
于硅的说法不正确的是 ( )A、自然界中硅的贮量丰富B、自然界中存在大量的单质硅C、高纯度的硅被广泛用于制作计算机
芯片D、硅橡胶可用于制作人造皮肤
答案
B
解析
根据元素在地壳中的含量知硅元素在自然界中的含量较高 ,但主要以化合态形式存在 ,所以A项正确 ,B项错误 ;由于硅能够
用作半导体材料 ,故C项正确 ;由新型高分子材料的用途知D项正确。
硅能与强碱溶液作用生成硅酸盐和氢气 :Si+2NaOH+H O====Na SiO +2H ↑对于这个反应 ,下列说法正确的是( )A
2 2 3 2
、Si是氧化剂B、Si是还原剂C、NaOH和H O是氧化剂D、水是氧化剂
2
答案
B,D
解析
====H SiO ↓+2H ↑ ①
4 4 2
H SiO ====H SiO +H O ②
4 4 2 3 2
2NaOH+H SiO ====Na SiO +2H O ③
2 3 2 3 2
简化成 :Si+2NaOH+H O====Na SiO +2H ↑
2 2 3 2
氮化铝 (AlN )是一种新型无机材料 ,广泛应用于集成电路生产领域。某氮化铝样品中可能含有碳或氧化铝中的一种杂质 ,现
用图 Ⅰ所示的装置来进行检验 ,使氮化铝样品和NaOH溶液反应AlN+NaOH+H O====NaAlO +NH ↑,已知NH 极易溶
2 2 3 3
解于水 ,Al在常温下能与NaOH溶液反应 :2Al+2NaOH+2H O====2NaAlO +3H ↑。根据反应中所生成氨气的体积来测
2 2 2
定样品中的氮化铝的质量分数 ,并根据实验现象来确定杂质的成分 (实验中导管体积忽略不计 )。
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