第二组三氯氢硅中痕量磷的气相色谱测定.pptVIP

三氯氢硅中痕量磷的气相色谱测定及气相色谱法测定 H2的组分 目录 1、气相色谱法测定三氯氢硅中痕量磷 2、气相色谱法测定 H2的组分 3、 检测报告表 样品的制备 检测依据 检测设备 基本原理 仪器与试剂 分析步骤 采样 原理 设备和仪器 工艺流程示意图 分析步骤 环境运行控制 原辅材料 样品的制备 采样 1、外观为无色透明液体SiHCl3 2、产品的技术要求 三氯氢硅含量 单位（%） 指标名称/规格 SiHCl3 SiH2Cl2 HCl SiHCl4 ≥ 99% 1（%） 痕量杂质含量 单位ppb 指标名称/规格 P Ni Co Zn Cu Cr Ca Mg Mn B Al Fe ≤10 ≤20 ≤600 ≤30 ≤100 检测依据 气相色谱法 基本原理 将气化的