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射频溅射制备镁钙微波陶瓷薄膜的研究

第 卷第 期 浙 江 大 学 学 报工学版# ! ! ! ! ! #7 # G).#7H)# 年 月 # ! # ?)*+,-.)@AB1-, C,D1+/= 9, ,11+, F31,31 8-+! ( 4 E 4 4 射频溅射制备镁钙微波陶瓷薄膜的研究 董树荣!王德苗!金 浩 ! #浙江大学 信息与电子工程学系浙江 杭州 $ #$!6 摘 要!制备了膜层质量良好的镁钙微波介质陶瓷# $薄膜 采用高密度等离子体射频溅射法在# $二氧化硅 8UR $$ ! 上沉积了 陶瓷薄膜 研究结果表明!薄膜态 陶瓷具有和块状材料相近的微波介电特性 薄膜的介 8UR 8UR 8UR 电常数在 左右品质因子在 左右’溅射气体的氩氧混合体积比会明显影响薄膜膜层质量及其介电特性 ! !#R^0 氧分压的变化改变了八面体 U轴长度使晶格畸变和八面体向四面体转变’溅射功率和退火工艺温度也会影响薄膜 质量 关键词!微波介质陶瓷’ ’介质薄膜’射频溅射 8UR 中图分类号! 文献标识码! 文章编号! # $ KM%M% N $% 76#I !# MM7 M ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! ! #$% ’( 2*.2.#4’(’FHLP#54(F4+)/- 2.%4’F2*$*(1 /$##*2 0 0 Y 0 YKHP FB*:+), ONHP Y1:;-) ?LH ^-) 4 # $ J#)*.#3*( D3 ().*-(33/21#0*)(3-023 -3##)-3 89#-3 ;3-#)6-* =3 9(7#$!6 ?9-3 @ + + 4 4 : 4 $ 4 ! # $ # $ 6-/#2.1# _+1@13=;-,1/-,.;1,=1 8UR =B,@.;/’1+1 +1-+12), $$ /.3),2)X21*,21+.- T 4 S S E E

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