石英基片精密干冰清洗效果的红外光谱差示法-强激光与粒子束.PDF

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２６ １１ Ｖｏｌ．２６ Ｎｏ．１１ 　 　 年 月 ， ２０１４ １１ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｎｏｖ． ２０１４ 　 　 石英基片精密干冰清洗效果的红外光谱差示法 张 哲， 潘 峰， 唐 明， 陈松林 　 　 　 　 　 　 （成都精密光学工程研究中心，成都 ６１００４１） 摘 要： 使用红外透过差示光谱法，对低羟基石英基片上的有机物吸收峰进行了定量测量表征。从理论 　　 　 　 上研究了该方法的可行性和特点，并初步检验了该方法的灵敏度。利用这种手段采集了大量真空精密干冰清 洗石英基片的数据，统计发现这些数据能够体现一定的规律性：干冰清洗有机物的效果与原始污染状况紧密联 系，某一时刻污染物越多，清洗效率越高；无机物或大颗粒的混入会降低有机物清洗效率；表面形态也能够影响 清洗效率。这些成果证明了该定量表征方法的正确性和实用性。实验过程和所得结论表明，将清洗初始状态 控制在相对一致的状态下，是精密干冰清洗定量研究和工程化参数优化的一个重要因素。 关键词： 红外光谱； 干冰清洗； 差示光谱法； 傅里叶变换光谱仪； 光学镀膜 　　 　 　 　 　 　 中图分类号： 文献标志码： ： ／ ＴＮ３０５．９７ Ａ 犱狅犻１０．１１８８４ＨＰＬＰＢ２０１４２６．１１１０１１ 　　 　 　　　　 　 　　 随着半导体产业、平板电视产业以及高激光损伤阈值元器件等技术的发展，高水平的镀膜产品对基底和最 　　 终样品清洗的要求日渐提高。由基底污染产生的产品缺陷，对镀膜产品的成品率和局部质量产生着重大影 ［ ］ １７ 响 。显微镜手擦法虽然能达到极好的效果，但效率极低且受人为影响较大，无法应用于产业。已用于产业 的化学湿式清洗方法对微纳颗粒物效果不佳，存在洗涤剂残留和清洗玻璃时的空化伤害等问题。如果继续提 高湿式清洗的效果，水电消耗和污染排放等代价过大。由此，下一代镀膜工艺寻求新的清洗方式，而精密干冰 ［， ］ 清洗被认为是有力的候选者 ３ ８９ 。 在光学石英基片清洗研究中，表面洁净程度的表征方法一直是一个突出的难题。首先，干式清洗法没有类 似湿式清洗法检查清洗液成分的间接测量方案，只能直接测量样品本身；其次，与硅晶圆等单质晶体表面不同， 抛光后的石英基片表面的物质构成、化学配比等较为复杂，难以定义要求较高的“洁净表面”；最后，昂贵、缓慢、 接触等测量方式均不适用于需要大量数据的研究和工艺优化。现有文献的一种常见解决方案是，将污染并不 严格地分类为颗粒污染和有机物污染，并分别对其进行研究。其中对有机物的定量表征多依赖 射线光电子 Ｘ ［， ， ］ ［， ］ 能谱分析（ ）３ ７ １０ 和接触角仪 ２ ４５ 。 通过测量 元素含量代替有机物。但该方法存在两个问题：穿 ＸＰＳ ＸＰＳ