矩形平面移动溅射靶的设计.doc

毕业设计（论文）任务书 （201届） 设计（论文）题目 矩形平面移动溅射靶的设计 学院名称 机械与汽车工程学院 专 业 （班 级） 机械设班 姓 名 （学 号） 指 导 教 师 系（教研室）负责人 目 录 矩形平面移动溅射靶的设计 3 摘要 3 Abstract 4 1 绪论 5 1.1真空镀膜的意义 5 1.2真空镀膜技术在国内外的发展状况 5 1.3阴极靶的重要性 6 1.4课题的研究背景 7 1.5设计要解决的问题 7 2 设计方案的确定 7 2.1 真空镀膜中阴极靶的种类 7 2.1.1 矩形平面磁控溅射靶 8 2.1.2 同轴圆柱形磁控溅射镀膜 8 2.1.3 圆形平面磁控溅射靶 9 2.2 初步的几种设计思路 10 2.2.1方案一：圆形旋转靶 10 2.2.2 方案二：矩形移动靶 10 2.3 最后方案的确定 11 3 阴极靶的结构设计和尺寸计算 11 3.1 靶的结构 11 3.2 靶的尺寸计算 13 3.3 磁场强度的选择 14 3.4 磁场均匀性 14 3.5 矩形平面靶磁场计算 15 3.6 传动装置的设计 15 3.7 真空室选泵的计算 16 3.7.1粗算主泵抽速 16 3.7.2 流导计算 16 3.7.3 精算主泵抽速 17 3.7.4 前级泵的计算 17 3.7.5 抽气时间的计算 18 3.7.6计算分子泵的抽气时间 18 结论 20 致谢 21 [参考文献] 22 矩形平面移动溅射靶的设计 摘要：本文介绍了一种真空磁控镀膜系统的移动阴极靶。磁控溅射镀膜现在已经 成为工业镀膜生产中最主要的技术之一，它能有效降低靶室的工作压强和靶的工作电压，提高溅射速率和沉积速率，降低基片温度，减小等离子体对膜层的破坏，特别适合于大面积镀膜生产。但靶面的非均匀剥蚀会降低靶材的利用率，造成溅射过程中参数的变化，严重影响溅射过程的稳定性。磁控溅射镀膜中靶的特性直接与溅射稳定性和膜层特性相关，因此如何优化设计靶，增加靶材利用率成为工业镀膜生产中迫切需要解决的问题。在这次设计中，我运用一个双向电机带动阴极靶往复移动，带动磁场的往复运动，增大水平磁场与靶材的接触面积，减缓靶材的纵向刻蚀速率，从而使靶材表面刻蚀区更为平缓。 关键词：阴极靶，真空环境，靶材利用率，移动 Abstract: This paper describes a vacuum coating system sample transfer rack, it ranged between industrial mass transport mechanism used in the sample and in the teaching laboratory equipment used in the sampling method. In the coating process, the quality of the vacuum coating system has great influence on the membrane. However, a good coating machine, it is important to sample transport of the sample rack transport includes sample fixed on a sample holder, transported to the vacuum chamber, into the vacuum chamber so the sample stage. Vacuum coating chamber is a relatively high demand, more stringent environmental requirements of space. Therefore, during the transmission of the sample, to ensure that the coating chamber vacuum environment is not too much influence in the transfer process but also ensure