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《薄膜物理与技术》课程复习 真空技术基础 真空 真空的概念、真空的单位 真空区域、各区域特点 平均自由程 余弦散射定律及其意义 真空泵（工作原理图、极限真空度） 真空计（工作原理、量程） 真空蒸镀 设备：真空室、真空泵、真空计 真空室中的设备 真空蒸镀的操作过程 起始压强的确定 蒸发源类型、特点 蒸发材料 蒸发温度、饱和蒸汽压 蒸发速率 影响薄膜生长和性能的主要因素 真空蒸镀的应用 溅射镀膜 溅射的基本原理 辉光放电、气体放电的类型 溅射机理 溅射阈值 溅射镀膜的类型、对设备的要求、镀膜特点 各种溅射镀膜的原理及工艺特点 与真空蒸镀的区别 离子镀 离子镀的原理、特点 离子镀膜与真空蒸镀和溅射镀膜的区别 化学气相沉积 基本原理 实现CVD技术的基本要求 CVD类型 LPCVD、PECVD原理、工艺特点、应用 三种CVD技术（热CVD、LPCVD、PECVD）的对比 工艺参数对薄膜质量的影响 与物理气相沉积的区别 溶液镀膜法 溶胶-凝胶法 LB法镀膜 设备 原理 过程 对材料有什么要求 如何控制薄膜质量 应用情况 薄膜的测试与表征 厚度 结构 组分 任选一种镀膜法镀膜，如何测定薄膜的厚度？怎么实时控制膜厚？如何确定薄膜的成分（元素、价态、结合形式、主要成份、次要成分）？如何确定薄膜的结构（相结构、微观结构、宏观结构）？如何测定薄膜晶粒的尺寸？