PECVD石墨舟对镀膜的影响.docVIP

使用管式PECVD镀膜，设备原配的石墨舟载片168片，为了提高产能，近期试用了载片196片的石墨舟，但在试用及调试过程中出现了很多异常；一直想不明白，希望得到各位的指导！ 问题回答：這問題太大了！ 我能力所限??無法如您所願.由 168 變 196? ?電極總面積增加? ? 至少 loading 增加了??這不好這麼直接 1+1=2 的算！ 其實 CT 的是很浪費電與氣體的機台.??所以也不是增加氣體與功率就能去掩蓋 loading 增加??意思是加很多可能效果不彰.??而低頻的電路更是容易不穩定！ 我的看法 power supply 腔體 匹配器（matching box) 組成整個電路??而最終必須形成駐波比＝1??也就是說阻抗 Z 要一致於是 matching box 的能力必須快且準??否則會有 reflect power.??因為腔體的氣體成分一直在變??所以 matching box 也必須聯動 也就是說 腔體的阻抗 Z1??＋??匹配器阻抗 Z2 =Z? ???而 z 中有電阻 電容 電感！所以 loading 增加表示 Z1 變了！ 而且可能是劇變 以致於 Z2 無法匹配 超出範圍.??於是電漿就不穩！我的建議是問問 CT 如果換大舟??要不要換匹配器？ 回答2电极板间距的变化是比较关键的，一般来说，间距的变化对于Depo rate/U%以及Reflect影响很大，本身这种舟式多片结构对于reflect控制不是太好，无法做到每个电极板腔室的单独控制，也就会产生舟中间和头尾之间比较大的差异。没具体做过管P的工艺，可能理解的不是很对，明天去问问我们的管P工程师。 回答3 168变196片，舟片间距肯定是要变化的，否则舟片间的电场强度就会降低很多。石墨舟的舟片间距和数量是对镀膜至关重要，增加了舟片就要相应的减少片间距，并增大射频电源的功率。看到你做168片的时候射频功率是2500W，建议做196提高到3000瓦试试。并且你的问题片只出现在中间靠近射频电源的地方，我和朋友讨论觉得很大的可能是石墨舟的问题，你的石墨舟电极突出一小部分这样会使电极和舟片间的电离强度增大，减小了这2片舟片间的沉积效果。电极隔块上的花纹就是放电沉积的结果，可以加的工艺气体流量看看是否有改善。设备应该是不存在什么问题的。