PECVD设的备资料.ppt

  1. 1、本文档共90页,可阅读全部内容。
  2. 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
  3. 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载
  4. 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
PECVD设的备资料

消防措施 危险特性:易燃,遇明火、高热极易燃烧,暴露在空气中能自燃,与氟、氯等发生剧烈的化学反应。 灭火方法:切断气源,若不能立即切断气源,则不允许熄灭正在燃烧的气体,喷水冷却容器,可能的话将容器从火场移至空旷处。 灭火剂:二氧化碳。 硅烷SiH4 泄漏应急处理 迅速撤离泄漏污染区,人员至上风处,并隔离至气体散去,切断火源。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿一般消防护服,切断气源,喷洒雾状水稀释、抽排(室内)或强力通风(室外)。如有可能,将残余气或漏出气用排风机送至水洗塔或与塔相连的通风橱内,漏气容器不能再用,且要经过技术处理,以除去可能剩下的气体。 硅烷SiH4 爆炸危险:易燃,能与空气混合形成爆炸性气体,遇明火及高热会燃烧、爆炸。 健康危害:低浓度氨对粘膜有刺激作用,高浓度可造成组织溶解坏死。 急性中毒:轻度者出现眼泪、咽痛、声音嘶哑、咳嗽、咯痰等,眼结膜、鼻粘膜、咽部充血、水肿、胸部X线症象符合支气管炎或支气管周围炎。中度中毒:上述症状加重,出现呼吸困难、紫绀、胸部X线症象符合肺炎或间质性肺炎,严重者可发生中毒性肺水肿,或有呼吸道窘迫综合症,患者剧烈咳嗽,咯大量粉红色泡沫痰,呼吸窘迫,谵意、昏迷、休克,可发生喉头水肿或支气管粘膜坏死脱落窒息,高浓度NH3可引起反射性呼吸停止。浓氨或高浓度氨可致眼灼伤,浓氨可致皮肤灼伤。 氨气NH3 环境危害:对环境有严重危害,应特别注意对地表水、土壤、大气和饮用水的污染。 皮肤接触:立即脱去被污染的衣着,应用2%硼酸液或大量清水冲洗,就医。 眼睛接触: 立即提起眼睑,用大量流动清水或生理盐水彻底清洗,至少15分钟,就医。 吸入: 迅速脱离现场至空气新鲜处,保持呼吸道通畅,如呼吸困难,给输氧;如呼吸停止,立即进行人工呼吸,就医。 危险特性:易燃,与空气混合能形成爆炸性混合物,遇明火、高热能引起燃烧、爆炸,与氟、氯等接触会发生剧烈的化学反应,若遇高热,容器内压增大,有开裂和爆炸的危险。 氨气NH3 灭火方法: 消防人员必须穿戴全身防火防毒服,切断气源,若不能立即切断气源,则不允许熄灭正在燃烧的气体,喷水冷却容器,可能的话将容器从火场移至空旷处。 灭火剂: 雾状水、抗溶性泡沫、二氧化碳、砂土. 氨气NH3 泄漏应急处理 迅速撤离泄漏污染区,人员至上风向,并立即隔离150米,严格限制出入,切断火源,建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,穿防毒服,尽可能切断泄漏源,合理通风,加速扩散,高浓度泄漏区,喷含HCl的喷雾水中和、稀释、溶解,构筑围堤或挖坑收容产生的大量废水。如可能将残余气或漏出气体用排风机送至水洗塔或与塔相连的通风橱内。储罐区最好设稀酸喷洒设施。漏气容器要妥善处理,修复,检验后再用。 氨气NH3 Si3N4的认识:Si3N4膜的颜色随着它的厚度的变化而变化,其理想的厚度是73—77nm之间,表面呈现的颜色是深蓝色,Si3N4膜的折射率在1.9—2.1之间为最佳,与酒精的折射率相乎,通常用酒精来测其折射率。 Si/N比对SiNx薄膜性质的影响: 电阻率随x增加而降低 折射率n随x增加而增加 腐蚀速率随密度增加而降低 镀膜的作用与膜的要求 SiNx的优点: 优良的表面钝化效果; 高效的光学减反射性能(厚度折射率匹配) 低温工艺(有效降低成本); 反应生成的H离子对硅片表面进行钝化. Si3N4膜的作用: 减少光的反射:良好的折射率和厚度可以促进太阳光的吸收。 防氧化:结构致密保证硅片不被氧化。 PECVD机械手操作界面 PECVD整个程序的运行过程中的控制 影响PECVD膜的因素 沉积温度 沉积压强 气体流量、比例 微波功率:最大功率,ton,toff 传输速度 微波功率:较高的P-mean-稍微提高沉积速率。 P-peak-调整等离子体分布长度 。 压强:较高压强-较低的沉积速率。 温度:较高温度-稍微降低沉积速率。 气流量:较高气流量-较高的沉积速率。 气体比例:更多SiH4-提高折射率。 各个条件影响分析 1 影响PECVD膜厚的有 程序运行时间太长 炉内的压力太大 辉光放电时的电压太大 真空度有泄露 去PSG清洗不干净 2 影响镀膜的薄的原因有 程序运行时间短 炉内的压力小 辉光

文档评论(0)

liwenhua00 + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档