试验四真空获得与真空镀膜.PDFVIP

实验四 真空获得与真空镀膜 压强低于一个标准大气压的稀薄气体空间称为真空．在真空状态下，由于气体稀薄， 分子之间或分子与其它质点之间的碰撞次数减少，分子在一定时间内碰撞于固体表面上的 次数亦相对减少，这导致其有一系列新的物化特性，诸如热传导与对流小，氧化作用少， 气体污染小，汽化点低，高真空的绝缘性能好等等．真空技术是基本实验技术之一，真空 技术在近代尖端科学技术，如表面科学、薄膜技术、空间科学、高能粒子加速器、微电子 学、材料科学等工作中都占有关键的地位，在工业生产中也有日益广泛的应用． 薄膜技术在现代科学技术和工业生产中有着广泛的应用．例如，光学系统中使用的各 种反射膜、增透膜、滤光片、分束镜、偏振镜等；电子器件中用的薄膜电阻，特别是平面 型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造；硬质保护膜可使各种经常受磨损 的器件表面硬化，大大增强表面耐磨程度；在塑料、陶瓷、石膏和玻璃等非金属材料表面 镀以金属膜具有良好的美化装饰效果，有些合金膜还起着保护层的作用；磁性薄膜具有记 忆功能，在电子计算机中用作存储记录介质而占有重要地位． 薄膜制备的方法主要有真空蒸发、溅射、分子束外延、化学镀膜等．真空镀膜，是指 在真空条件中采用蒸发和溅射等技术使镀膜材料气化，并在一定条件下使气化的原子或分 子牢固地凝结在被镀的基片上形成薄膜．真空镀膜是目前用来制备薄膜最常用的方法，真 空镀膜技术目前正在向各个重要的科学领域中延伸，引起了人们广泛的注意． 【实验目的】 1．了解真空技术的基本知识； 2 ．掌握低、高真空的获得和测量的基本原理及方法； 3 ．了解真空镀膜的基本知识； 4 ．学习掌握蒸发镀膜的基本原理和方法． 【实验原理】 1．真空度与气体压强 真空度是对气体稀薄程度的一种客观度量，单位体积中的气体分子数越少，表明真空 度越高．由于气体分子密度不易度量，通常真空度用气体压强来表示，压强越低真空度越 高．按照国际单位制(SI)，压强单位是牛顿/米2 ，称为帕斯卡，简称帕（Pa ）． 通常按照气体空间的物理特性及真空技术应用特点，将真空划分为几个区域，见表 1． 2 ．真空的获得 用来获得真空的设备称为真空泵，真空泵按其工作机理可分为排气型和吸气型两大 类．排气型真空泵是利用内部的各种压缩机构，将被抽容器中的气体压缩到排气口，而将 气体排出泵体之外，如机械泵、扩散泵和分子泵等．吸气型真空泵则是在封闭的真空系统 中，利用各种表面（吸气剂）吸气的办法将被抽空间的气体分子长期吸着在吸气剂表面上， 使被抽容器保持真空，如吸附泵、离子泵和低温泵等． 真空泵的主要性能可有下列指标衡量： （1）极限真空度：无负载（无被抽容器）时泵入口处可达到的最低压强（最高真空度）． - 22 - （2 ）抽气速率：在一定的温度与压力下，单位时间内泵从被抽容器抽出气体的体积， 单位（升/秒）． （3 ）启动压强：泵能够开始正常工作的最高压强． 表 1 真空区域划分及其特点和应用 真空区域 粗真空 低真空 高真空 超高真空 极高真空 5 3 3 -1 -1 -6 -6 -12 -12 范围（帕） 10 ~10 10 ~10 10 ~10 10 ~10 10 能实现气体 能实现气体 主要是分子 分子碰撞器 分子数目极 放电，以分子间相 放电，分子间相互 与器壁碰撞． 壁的次数减少，形 为稀少，以致统计 互碰撞为主． 碰撞和分子与器 成一个单分子层 涨落现象比较严 物理现象 壁碰撞不相上下． 的时间已达到数 重（大于 5% ），