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[工学]半导体工艺教学以及电子线路基础
第一章:半导体产品发展概述
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1947年第一只具有放大作用的点接触晶体管问世,与电
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子管相比具有很多优点,引起人们广泛注意,在随后
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的十几年时间相继发明了各式各样晶体管(合金管、合
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金扩散管、台面管等) 。1960年硅平面工艺和外延技术
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的出现,使半导器件的制造工艺获得重大突破。它为
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集成电路的制造开拓了广阔的途径,促进了半导体器
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件进一步向微型化、低功耗和高可靠性方向发展。集
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成度由SSI、MSI、LSI、VLSI步入了ULSI时代。
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半导体产品发展概述
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1957年第一只SCR问世以来功率器件也取得了长足的进
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步,相继推出了GTO(可关断晶闸管)TRIAC(双向晶闸
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管)和GTR(达林顿功率晶体管)这些都是双极型器件,它
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们共同优点是功率容量大,导通电阻小,缺点是存在少子
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贮存效应,开关速度低,电流驱动,驱动功率大,不易控
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制,七十年末由IR和GE公司发明了单极型功率器件功率
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MOSFET,立即受到制造厂和用户的重视。三年后西方
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15家大公司均掌握了功率MOSFET生产技术
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(VDMOS),1983年诞生了IGBT双极型器件。半导体
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器件种类繁多,工艺有别,本次培训主要以外延平面工艺
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为主,介绍以下内容:单晶硅拉制及衬底制备、外延工
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艺、氧化工艺、扩散与离子注入工艺、光刻工艺、蒸发工
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艺、芯片组装工艺。
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第2章 半导体三极管和交流电压放大
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电路
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1. 掌握半导体三极管的基本结构、特性、电流
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分配和放大原理。
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极、
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共集电极放大电路的性能特点。
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3. 掌握静态工作点的估算方法和放大电路的微
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变 等效电路分析法。
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4. 了解放大电路输入、输出电阻和多级放大的
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概念,了解放大电路的频率特性。
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• 放大的概念:
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放大的目的是将微弱的变化信号放大成较大的信号。
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放大的实质:
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用小能量的信号通过三极管的电流控制作用,将放
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大电路
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