原创力文档- 1、本文档共32页，可阅读全部内容。
- 2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
查看更多
半导体研究2
VACT’s
Rotatable Sputtering
Technology
e
m
a
n
e
l
i
f
/
5
0
0
2
,
3
2
e
n
u
J
1
COMPANY CONFIDENTIAL
Outline
1 Key Requirements for a Modern Magnetron
2 Key Features of VACT’s C-MAG® Cathode
1 Proprietary VAC-MAGTM Endblock
2 X-Bar Magnet Array – Best in the Industry
3 Install Base
4 Conclusions
e
m
a
n
e
l
i
f
/
5
0
0
2
,
3
2
e
n
u
J
2
COMPANY CONFIDENTIAL
Key Requirements for a Modern Magnetron
• Designed from first principles for high current AC operation
• Robust mechanical and vacuum design
• Target materials utilization 75%
• Deposition Uniformity 4% thickness range
• Minimization of arc and debris generation
• Self-maintenance by users
e
m
a
n
e
l
i
f
/
5 High Uniformity - Long service life –
0
0
2
,
3
2
e Low cost of ownership
n
u
J
3
COMPANY CONFIDENTIAL
KEY FEATURES of VACT’s C-MAG® Cathode
End blocks:
Up to 400 amps DC or AC
Up to 1,100 V DC and 2,500 V AC
Magnet Bar:
Magnet Bar Array:
Robust, tunable, insoluble/water cooled magnetic material
Optimally positioned for sputtering of the entire target surface
Magnet Bar Turn-Around:
e Suppress uneven erosion at turn-arounds
m
a
n
e
l Quick change one-piece turn-around
i
f
/
5
0
0
2
3, Targets:
2
e
n
u Non-proprietary fixation allows choice of target su
文档评论（0）