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钨及其化合物中杂质元素的分析进展-工业技术创新
第 25 卷第 6 期 冶 金 分 析 Vol . 25 , No . 6
2005 年 12 月 Metallurgical Analysis December , 2005
( )
文章编号 :1000 - 757 1 2005 06 - 0033 - 06
综
述 钨及其化合物中杂质元素的分析进展
与
评
论 李 彤 ,任凤莲
( 中南大学化学化工学院 ,湖南长沙 4 10083)
摘 要 :综述了 199 1~2004 年以来钨及其化合物中杂质元素分析方法的进展 ,包括原子发射
光谱法 、原子吸收光谱法 、分光光度法 、质谱法 、电化学分析法等 。从测定体系与测定条件 、分
析方法的检出限、干扰情况和测定范围等方面加以归纳和概括 。共引用文献 60 篇 。
关键词 :钨 ;杂质元素 ;分析 ;进展
中图分类号 :O653 文献标识码 :A
钨具有熔点高 ,密度大 ,热膨胀系数和比电阻 和 10 g/ L Ga O 作混合载体 ,以 Ge 作内标 ,测定了
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低 ,高温强度和硬度高等特性 ,广泛用于照明、电 纯钨中铁 、硅 、铝、锰、镁 、镍 、钴、钛、钒 、砷 、锑 、钙 、
子工业 、高温合金 、高密度合金 、硬质合金 、合金钢 铬 、磷、铋 、镉 、锡 、铜、钼等 19 种元素 ,相对标准标
的制造 ;但钨及其化合物中痕量元素含量的变化 差为 4 %~18 % ;王绪仁等[5 ] 以35 g/ L LiF ,40 g/ L
往往对其冶炼与应用特性产生影响 ,它们能对氧 Li CO 和 925 g/ L 石墨粉作缓冲剂 ,测定了三氧化
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化钨还原为金属钨的过程发生妨碍 ,能使钨粉易 钨中锌 、锆、锶 、钡 、银的含量 ,检测下限分别为锌 、
于结块 ,对于重结晶过程及产品机械强度产生不 锆为 0001 % ,钡为0000 7 % ,锶为 0000 5 % ,银
利影响 。因此 ,随着宇航 、电子工业及精密合金的 为 0000 2 % ;王绪仁还报道了用 E1000 型火花源
日益发展 ,对钨及其化合物中杂质元素的测定提 原子发射光谱仪 ,直流电弧阳极激发测定了高纯钨
出了新的要求 。本文从测定体系与测定条件 ,分 中20 种杂质元素的分析方法[6 ] ;罗锦秀等[7 ] 以含
析方法的检出限、灵敏度 、干扰情况和测定范围等 75 g/ L Ga O 的石墨粉作为内标 ,60 g/ L 的 NaF
2 3
方面综述了 199 1~2004 年以来钨及其化合物中 作载体 ,采用载体分馏法同时测定钨合金切屑回收
杂质元素的分析方法发展状况 ,包括原子发射光 粉中硅 、钙 、铝、铅、铬 、铜、锑 、钼和锡等 11 种杂质
谱法
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