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Mercury2000P系列无掩膜光刻机 ? ? ? ??? ? 支持： ? ? ? 》第二代无掩膜光刻技术 ? ? 》全局对准功能 ? ? 》手动对准功能 ? ? 》预对准功能 ? ? 》对准补偿设定 ? ? 》高精度图形套刻匹配 ? ? 》全自动聚焦功能 ? ? 》灰度补偿功能 ? ? 》支持GDSII,CIF,DXF多种格式处理 ? ? 　　产品介绍:　 ? 　　芯硕Mercury系列无掩膜直写光刻设备基于先进的第二代光刻直写技术，通过空间光调制器扫描技术实现直写光刻。 ? ? 该系列产品主要应用于大规模集成电路150nm工艺节点以上掩膜版制作，亦可用于微纳加工、MEMS、LED、生物芯片等领域的直写光刻，在应用中省去了繁琐的掩膜加工步骤，相比单束直写具有效率高、技术先进、应用灵活等特点。该系列产品采用芯硕专利技术的大功率LD(波长405nm)光源，可达0.65um解析度和0.25um的套刻精度。 ? 　　?指标?: 　　 ? ? ? ? ? SEM效果图: ? Neptune280封装基板激光直接成像系统 支持： ? ? ? 》涨缩模式选择： ? ? ? ?1.无涨缩 ? ? ? ?2.固定涨缩 ? ? ? ?3.自动涨缩 ? ? ? ?4.固定分区间涨缩 ? ? ? ?5.分区域对位与设定涨缩? ? 》两面配合度自动对准 ? ? 》自动记录生产讯息与参数设定；用于查询统计