多光束激光干涉光刻图样-强激光与粒子束.PDFVIP

第 卷第 期 强 激 光 与 粒 子 束 ， ２３ １２ Ｖｏｌ．２３ Ｎｏ．１２ 　 　 年 月 ， ２０１１ １２ ＨＩＧＨ ＰＯＷＥＲＬＡＳＥＲＡＮＤＰＡＲＴＩＣＬＥＢＥＡＭＳ Ｄｅｃ． ２０１１ 　 　 文章编号： （ ） １００１４３２２２０１１１２３１５７０６ 　 多光束激光干涉光刻图样 ， １ １ １ ２ １２ 张 伟 ， 刘维萍 ， 顾小勇 ， 谈春雷 ， 彭长四 　 　 　 　 　 （ 苏州大学 信息光学工程研究所，江苏 苏州 ； 坦佩雷科技大学 光电研究中心，芬兰 坦佩雷 ） １． ２１５００６ ２． ３３７２０ 　 摘 要： 利用电磁理论，研究了多光束激光干涉图样的产生原理，结合计算机数值模拟和相关实验结果， 　　 　 　 分析了干涉图样的影响因素。研究结果表明：多光束激光干涉图样可以看成是多组余弦分布的平行线条纹的 叠加；相干光束的偏振方向、入射方向、光束间相位差是干涉图样的重要影响因素，改变这些因素，余弦分布的 平行线条纹的振幅、位置、周期和方向发生变化，图样也随之变化。 关键词： 微纳结构； 纳米制造； 激光干涉光刻； 激光干涉图样 　　 　 　 　 　 中图分类号： 文献标志码： ： ／ ＴＮ３０５．７ Ａ 犱狅犻１０．３７８８ＨＰＬＰ３１５７ 　　 　 　　　　 　 　　 ［ ］ ［］ １５ ６ 周期微纳结构在诸多领域展现了良好的应用前景 。通常制作这种微纳结构的方法有电子束光刻 、聚 　　 ［］ ［，］ ［， ］ ７ １８ ４９１１ 焦离子束刻蚀 、激光干涉光刻 ，以及其他方法 。利用电子束光刻或聚焦离子束刻蚀的方法制作微纳 结构，分辨力高，无需掩膜，可产生任意形状的微纳图样。但这两种技术效率低，设备昂贵，无法满足大规模生 产的要求，因此多应用于实验室的科学研究。激光干涉光刻（ ）技术是利用激光干涉产生周期性或准周期 ＬＩＬ 性的光场分布，并与材料相互作用而制造出纳米结构。干