[工程科技]表面现象.pptVIP

6.1固体的表面结构 6.2固体的界面行为 6.3粘土-水系统的性质 6.1.1表面力场 固体中，质点之间存在着相互作用，即每个质点周围都存在着一个力场。由于晶体内部质点的排列是有序和周期重复的，故每个质点力场是对称的。但在固体表面，质点排列的周期性中断，使处于表面边界上的质点力场对称性破坏，表现出剩余的键力，这就是固体表面力。依固体键的性质不同，表面力可分为化学力和分子间力两部分： (1)化学力就本质而言是静电力，主要来自于表面质点的不饱和键(表面断开的受力不平衡，能量升高部分) (2)分子间力也就是范德华力，一般是指固体表面与被吸附质点(如气体分子)之间的相互作用力，它是固体表面产生物理吸附和气体凝聚的原因。 在这些表面力场的作用下，就形成了固体表面所特有的性质和表现。 6.1.3 表面原子结构 所谓表面就是指晶体三维周期结构和真空之间的过渡区域。表面原子结构即物质(晶体)表面原子的排列情况，亦称表面结构。表面原子层不具备体相的三维周期性。根据现有的资料清楚表明，肉眼看到的极为光滑和完整的表面，从亚微观的角度来看则是不均匀的。 取一块硫化镉(CdS)单晶的一个面在显微镜下观察，放大200倍就可看到许多平行于原子平面的平台，这些平台为l0～102nm高的原子阶梯所分隔，这类平台实际就是晶体的内部线缺陷—螺型位错延伸至表面而形成的。 一、表面结构 表面上的原子会通过各种途径如：极化、变形、重排、偏析、吸附来降低表面能。 1、弛豫： 弛豫是指表面区的原子或离子间的的距离偏离晶体内的晶格常数，但晶胞点阵的排列不变。如：NaCl晶体的弛豫： 弛豫主要发生在表面的垂直方向上，不仅发生在表面一层，而会延伸到一定范围，例如NaCl晶体的弛豫发生在表面5层范围内，同时弛豫过程保留了平行于表面的原子排列的对称性。 2、重构 表面原子的平移对称性与体内显著不同，原子做了大幅度调整。 3、偏析 偏析是指表面或界面附近一薄层内的化学组成偏离晶体内部的平均组成。 4、吸附 由于固体表面存在大量的不饱和键，能吸附外来原子、离子或分子，降低表面能。如：SiO2陶瓷断裂时，破坏大量的Si-O键，形成了具有不饱和键的Si4+和O2-，表面能极高，能迅速从空气中吸附O2和H2O，降低表面能。 二、表面结构表征 1、当表面原子的排列与体相单胞的排列相同时，用缩写符号R(hkl)-(1×1)表示。 例Pt(111)-(1×1) 2、当表面原子的排列与体相单胞的排列不相同时，但仅晶格常数发生变化，用缩写符号R(hkl)-(q×r)-D表示， 例Al(111)－(3×3)－Si为以Al为底物的表面吸附Si的结构， Ｓi(111)－(7×7)为以Si为底面的表面重组结构 3、表面结构针对体相单胞转了一个角度α，a s和bs之间的夹角与a和b之间的夹角相同，缩写符号仍可用，通常为 4、为了表示更为复杂的表面结构，可以用一个矩阵符号表示，如 三、一些重要体系的表面结构特征 1、金属表面 热力学的稳定表面都是那些具有紧密堆积的原子平面，也就是结晶学上的低指数平面，例如面心立方晶胞(fcc)的(100)和(111)面，体心立方晶胞(bcc)的(110)面等。 许多干净的金属表面，经用LEED研究表明，其低密勒指数面的表面单胞多为(1×1)结构。表面单胞与体相单胞在表面上的投影相等，最上层在z方向(垂直于表面的方向)与第二层的间距接近于体相值，变动范围在5％以内。如这类金属有(fcc)的Ag、Al、Pt、Ni、Cu、Ir、Rh等的(111)面，hcp的Be、Ca、Co、Ti、Zn的(0001)晶面和bcc的Fe、Na、W的(110)晶面等。 但Ag、Al的(110)面，Mo、W的(100)面在300K以上虽保持为(1×1)结构，但Z空隙则缩小了，如Al收缩5％～15％，W收缩6％。这些晶面都属于结晶学相对不太紧密的晶面。为了减少表面自由能，表面原子重新定位，距离变化是可以理解的。 2半导体表面 和金属不同，半导体表面发生重组是很普遍的现象，此外，在半导体表面上，不同类型的表面结构似乎具有各自很明确的稳定的温度范围，当温度高于或低于这个范围，表面就从某一表面结构转变到另一有序的表面结构。 如Si(111)面在超真空中裂开时，衍射图像表明该表面结构为(2×1)，为介稳型；升温到673K左右转变为(1×1)；进一步加热到873～9