InN纳米线的低压化学气相沉积及其场发射特性研究.pdf

See discussions, stats, and author profiles for this publication at: /publication/272176897 InN /Low pressure chemical vapor deposition synthesis of InN nanowires and their field electron emission Article in Acta hysica Sinica -Chinese Edition- · April 2007 CITATION READS 1 11 5 authors, including: Erqing Xie X. M. Cai Lanzhou University Shenzhen University 420 UBLICATIONS 4,27 CITATIONS 74 UBLICATIONS 49 CITATIONS SEE ROFILE SEE ROFILE Some of the authors of this publication are also working on these related projects: 3D supercapacitors View project Electrochemical Supercapacitor View project All content following this page was uploaded by Erqing Xie on 18 February 2015. The user has requested enhancement of the downloaded file. 第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 ’) 8 $ 8 ， ， ， 5:C 2’) 1: 28 +R=.C $ （ ） !%*6$6’) 8 6%8’ +LN+ OPQ-/L+ -/1/L+ $$ L@.0 2 O@ST 2 -:7 2 !# 纳米线的低压化学气相沉积及其场发射特性研究! ） ） ） ） ） ! ! ! ! # 叶 凡 蔡兴民 王晓明 赵建果 谢二庆 !）（兰州大学物理科学与技术学院，兰州 $% ） ）（深圳大学物理科学学院，深圳 ’!() ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） ) $ ! ) * ) 利用低压化学气相沉积方法在以 作催化剂的 衬底上生长了 纳米线 扫描电子显微镜分析表明，这