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一种N型轻掺杂氢化硅基薄膜的欧姆接触
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第 卷 第 期 常州大学学报 自然科学版
２３ ４ Vol２３No４
年 月 ( )
２０１１ １２ JournalofChanzhouUniversit NaturalScienceEdition Dec２０１１
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文章编号: ( )
２０９５－０４１１ ２０１１ ０４－０００５－０５
一种 型轻掺杂氢化硅基薄膜的欧姆接触∗
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１ １２ １２
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李建凯 袁宁一 丁建宁
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１常州大学 低维材料与微纳器件中心 江苏 常州 ２１３１６４ ２江苏省太阳能电池材料与技术重点实验室 江苏 常州
２１３１６４)
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摘要 使用等离子体增强化学气相沉积方法制备了一组磷掺杂氢化硅基薄膜 I－U 曲线显示薄膜与铝电极形成了良好的欧姆
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接触 霍尔测试结果表明该组样品为轻掺杂 利用拉曼光谱和紫外 可见吸收光谱对薄膜的微结构和光学带隙进行了表征 并
－
从薄膜能带结构出发探讨了形成欧姆接触的原因.
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关键词 氢化硅基薄膜 欧姆接触 能带结构 费米能级
中图分类号: ; 文献标识码:A
TQ３２０ TN３０４
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ResearthonOhmicContactsofLihtlN－DoedSi HThinFilm
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LIJian－kai YUANNin－ i DINGJian－nin
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１CenterforLow－DimensionalMaterials Micro－NanoDevicesandSstem ChanzhouUniversit
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