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二维硅薄膜光子晶体波导的设计及制作
第 卷 第 期 光学 精密工程
18 12
Vol.18 No.12
O ticsandPrecisionEnineerin
年 月 p g g
2010 12 Dec.2010
文章编号 ( )
1004924X201012254908
二维硅薄膜光子晶体波导的设计及制作
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12 1 1 12 1 1
崔乃迪 ,梁静秋 ,梁中翥 ,周建伟 ,宁永强 ,王维彪
( 中国科学院 长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室,吉林 长春 ;
1. 130033
2.中国科学院 研究生院,北京 100039)
摘要:为了制作可用于通信波段的二维硅光子晶体波导,研究了光子晶体波导的设计方法及制作工艺。应用平面波展开
法计算了两种空气孔型光子晶体结构的TE波禁带,经筛选采用了三角晶格空气孔结构。同样利用平面波展开法计算
了引入缺陷后二维三角晶格空气孔型光子晶体波导结构的TE波禁带,经对比发现归一化频率为 0.2957的缺陷态最适
宜用来制备光子晶体波导,并据此设计了用于 1.55 m波长的二维三角晶格空气孔型光子晶体波导,其晶格周期为 458
μ
nm,空气孔直径为 339nm。对设计的结构参数进行了容差计算,结果表明误差在-3.95 5.65nm方能满足设计要求。
~
最后使用聚焦离子束刻蚀工艺,制作了所设计的波导结构,并进行了测试。测试结果表明,样品实际晶格周期为 463
nm,空气孔直径为 344nm,比设计值大 5nm,在容差允许范围内,满足设计要求。
关 键 词:光子晶体;二维光子晶体波导;三角晶格空气孔;聚焦离子束刻蚀
中图分类号: ; 文献标识码: : /
0734TN252 A 犱狅犻10.3788OPE2549
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