激光原理第19讲_增益饱和教材教学课件.pptVIP

* * 激光原理与技术·原理部分 第19讲 增益饱和 19.1 均匀加宽工作物质的粒子反转数饱和 1、增益饱和现象及其物理机制 增益饱和现象 当入射光强Iν足够小时，G为常数； 当入射光强Iν增大到一定的程度后，G将会随着Iν的增加而下降，这种过程称为增益饱和现象； 产生增益饱和现象的物理机制： 受激辐射几率与入射光强成正比， Iν足够大时，Δn下降的很快，因此G会随着Iν的增加而下降。 19.1 均匀加宽工作物质的粒子反转数饱和 2、均匀加宽下的Δn的饱和 只要入射光的频率落在谱线线宽以内，就会产生受激吸收和受激辐射； 如果Iν足够强，受激辐射对原子系统的各能级上的粒子数目的影响就必须考虑。 当我们考虑四能级系统： 且 为什么？ 19.1 均匀加宽工作物质的粒子反转数饱和 将线型函数gH(ν,ν0)引入可得到： 其中 A、当Iν一定时，ΔnΔn0，这种现象称为反转粒子数饱和； 19.1 均匀加宽工作物质的粒子反转数饱和 B、Δn与Δn0有关，还与入射光的频率有关，不同频率的入射光对反转粒子数的影响是不同的； C、当ν=ν0时， 表明强度为 的入射光会使Δn减小到小信号Δn0时的 倍，当 时，Δn=Δn0/2。 19.1 均匀加宽工作物质的粒子反转数饱和 D、当入射光频率偏离中心频