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IC/5 使用说明书 第 1 页共 205 页 IC/5 薄 膜 镀 层 控 制 仪 使 用 说 明 书 IPN 074-237M 1 IC/5 使用说明书 第 2 页共 205 页 第 1 章 前言和技术规范 1.1 前言 IC/5 是闭环过程控制仪主要用于 PVD 镀膜过程。仪器监测和控制镀膜的速率 和镀层的厚度。由于石英晶体表面淀积层质量的增加，引起频率的改变来推断 镀膜的速率与厚度。这个技术将传感器置于蒸发源与基片之间的路径上。传感 器装有振荡的石英晶体，当镀层增厚时，频率降低。频率的变化提供确定速率 与镀厚的信息，并连续控制蒸发源的功率。在用户设定要求的时间、厚度、速 率、材料特性和功率限值后，仪器能精确和可重复地自动控制镀膜过程。用户 通过仪器的面板操作，包括工艺参数的选用和输入。 IC/5 整个系统包括主电子学单元，传感器探头和晶体接口单元（XIU ），用于 每个连接的传感器。这些组件整套供应，也可单独订购。 IC/5 说明书提供仪器的安装、编程、校准和主电子学单元的运行。 阅读 IC/5 说明书，请特别注意文中的注、注意和警告。注、注意和警告的定 义在 1-2 页的第 121 节中。 请将有关本说明书有用性与精确性方面的意见填写在登记表中，返回我公司。 1.1.1 相关说明书 传感器包含在各说明书中。 ♦ 074-154 – 可烘烤 ♦ 074-155 - CrystalSix ♦ 074-156 – 单 / 双 ♦ 074-157 – 溅射 1-1 2 IC/5 使用说明书 第 3 页共 205 页 第 3 章 操 作 3.1 面板控制 IC/5 的操作控制位于仪器的面板上，如图 3-1 所示。 图3-1 1C/5 的控制面板 1 CRT 显示屏 显示图形、菜单、状态和故障信息。 2 功能键 在显示屏边上有一列功能键：F1 至 F6 。用于选择显示或菜单项。其功能 在显示中指示，并在下面的章节中说明。 3 数据输入键 键盘上有从 0 至 9 的数字键和是（Y ），否（N ），输入（E ）。清除（C ）， 打印与菜单等键，用于参数的选择与输入。所有数字和是/否键必须接着 按输入键（E ）确认输入。清除键（C ）用于抹去错误的输入数据。如已