CN107464241-CN201710701325-一种足底压力的分析方法.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 107464241 A (43)申请公布日 2017.12.12 (21)申请号 201710701325.6 (22)申请日 2017.08.16 (71)申请人 深圳市新元素医疗技术开发有限公 司 地址 518000 广东省深圳市龙岗区布吉街 道甘坑社区甘李六路5号波音电讯厂 房13楼 (72)发明人 谢延义　邹先林　张黔　 (74)专利代理机构 上海申新律师事务所 31272 代理人 俞涤炯 (51)Int.Cl. G06T 7/00(2017.01) G06T 5/30(2006.01) G06T 7/11(2017.01) 权利要求书2页 说明书6页 附图1页 (54)发明名称 一种足底压力的分析方法 (57)摘要 本发明涉及一种足底压力的分析方法，其包 括如下步骤：获取足压数据，并对该足压数据进 行前期处理，获得足底压力指标(足压最大值、足 压平均值、足压方差、足压标准差、压强比等)；对 前期处理后的足压数据中的足压圆边边缘进行 进一步处理，获得满足预定要求的平滑的足压图 像；对平滑的足压图像进行分区处理，得到足部 指标(足部接触面积、足部重心、足弓长度、脚长、 脚宽)，并分析受测者的站姿和其内外翻指数和 足弓指数。通过本发明所述的足底压力的分析方 法，能够全面分析足底压力的分布情况，实现对 足底压力数据的进一步分析，优化了分析结果， A 减少了分析误差，并准确获得各项足压指标。 1 4 2 4 6 4 7 0 1 N C CN 107464241 A 权　利　要　求　书 1/2页 1.一种足底压力的分析方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤(1)、获取足压数据，并对该足压数据进行前期处理，获得足底压力指标； 步骤(2)、对步骤(1)中前期处理后的足压数据中的足压圆边边缘进行进一步处理，获 得满足预定要求的平滑的足压图像； 步骤(3)、对步骤(2)中获得的平滑的足压图像进行分区处理，得到足部指标，并分析内 外翻指数和足弓指数。 2.根据权利要求1所述的一种足底压力的分析方法，其特征在于，所述步骤1)的具体实 施过程包括： a)采用传感器获取足压数据； b)根据步骤a)获取的足压数据，计算压力数据的平均值、方差和标准差；压力重心；左 右脚的平均值、方差、标准差和重心； c)对步骤a)处理后的压力数据依次进行插值处理、二值化处理并分析得出每一个坐标 点的连通域。 3.根据权利要求2所述的一种足底压力的分析方法，其特征在于，所述插值处理具体 为：插值一次增加2×2倍的数据，共插值三次，数据量增大64倍。 4.根据权利要求2所述的一种足底压力的分析方法，其特征在于，所述二值化处理具体 为：有压力值得置1，无压力值得置0；所述分析得出每一个坐标点的连通域具体为：每一坐 标点的连通域在x轴和y轴方向的长度分别为len_x和len_y；其中，如果满足(len_x+len_y) 20、len_y/len_x0.05、len_y/len_x20中的一个条件，则将该坐标点的压力值置0。 5.根据权利要求1所述的一种足底压力的分析方法，其特征在于，所述步骤2)的具体实 施过程包括： A)采用椭圆核对步骤1)中前期处理后的压力数据进行腐蚀膨胀处理； B)将步骤A)腐蚀膨胀处理后的压力数据按照x坐标从中间平均分成两部分，分别对应 左脚右脚的位置，并将其对应的压力数据存入左右脚的数据中。