离子束辅助沉积ZrNTiAlN和CNltxgtTiAlN纳米多层膜的研究.pdf

巾文摘要 摘要 本文利用超高真空离子束辅助沉积技术在Si(100)基底上设计合成 ZrN厂riAlN和Q寸。御AlN纳米多层膜。乖j用表面轮廓仪和纳米力学测试系统研究 薄膜的机械性能，包括表面硬度、弹性模量以及薄膜与基底的附着力；还通过X 射线衍射(Ⅺ国)，俄歇电子能谱仪(AES)和扫描电子显微镜(SEM)等分析手段研究 了薄膜的结构特征。揭示多层膜体系的结构和性能以及工艺参数之间的相互关 系，找出合成最佳多层膜的工艺，使多层膜体系的硬度和附着力优于单质薄膜材 料。 对于ZrN广riAlN纳米多层膜体系，讨论了调制周期、调制比例、离子轰击能 量和离子束流等实验条件对薄膜结构和性能的影响。AES、sEM和低角XRD均证 明了多层膜的层状结构，而且展示了明晰界面。高角XRD证明ZrN单层膜具有典 (1 体完整性得到提高，这种强烈的(111)多晶结构会对多层膜硬度和模量的增强有很 大贡献。纳米硬度和划瘦测试表明多层膜都具有比单质膜更高的硬度、弹性模量 和膜基结合力。当调制周期为6．5姗，zrN和T认1N的调制比例为2：3，离子轰击 能量为2∞ev，氮离子束流为5mA时薄膜具有最高的硬度(30GPa)、弹性模量， 薹蓁；薹萎ii垂i l。j喜|霎。 (361GPa)和临界载荷(53．3mN)。基底温度的升高，会显著降低薄膜的残余应力， 但对薄膜魄硬度，摩擦系数没有明显影响。 随重萋蠹墓翼霎艮j璧渊疆藁婚晕鲤霾萋：耄i!自；耋螽鬟；；羹委li篓i贤茎妻§琴琴liii萋蠡纂篓琴摹∽囊掰篷摹琴纛妻蒸季鐾i囊；蓁霎囊霎睦辇；獭嚣囊篓喜蓁巍蔷i箩鬟i呈塞耋；萋攀鏖i；i霉一霪薹l 。? 用离子束辅助沉积系统所制备的一系列不同调制周期和CN；所占比例的 膜分别为非晶和纳米晶结构，CN。厂riAlN多层膜却当洲 中文摘蘩 烈；层所占比例，只要当CN。层厚增大至O．6腿以上时，CNx将以非晶形式存 在，阻断了多层膜的共格外延生长，使其强化效应消失，薄膜的硬度和弹性模量 就会甥显降低。 道。本文豹结果表明，利用超高真空离子束辅助沉积技术，通过控制合适的工艺 参数，合成具有高硬度、高模量、高膜基结合力和低应力的ZrN／TiAlN、CN，／TiAlN 纳米多层膜是可以实现的。本研究可望应用于新的刃具涂层材料，对于提高刀具 的切削速率，延长刀具的使用寿命，探索新的超硬材料和扩大纳米多层膜的工业 疲焉范围具有一定的意义。 关键词：离子柬辅助沉积，纳米多层膜，硬度，力学性能，调制周期 Il 独创性声明 本入声萌所呈交的论文是我个人在导师指导下进行的研究工作及取得的研 究成果。尽我所知，除了文中特别加以标注和致谢的地方外，论文中不包含其 能人已经发表或撰写过的研究成票，也不包含为获得苤鲞塑整盘堂或其它教 育机构的学位或证书而使用过的材料。与我一同工作的同志对本研究所做的任 何贡献均巴在论文中作了甓确的说唆并表示了谢意。 签名：剞‰日 学位论文版权使用授权书 本人完全了解天津师范大学有关保留、使用学位论文的规定，即：学校有权 将学位论文的全部或部分内容编入有关数据库进行检索，并采用影印、缩印或 扫攒等复制手段保存、汇编以供查瓣和借阅。同意学校向国家有关部门或机构 送交论文的复印件和磁盘。 《保密的论文在解密后应遵守此撬定) 签 名_ ＼超 导师签名： 第一牵绪论 了艺 冤一罩三；螽第一章绪论 1．1引言 20世纪60年代以来，随着固态高科技产业(集成电路产业、固体发光和激 光器件产业、磁光记录材料和器件产业等)的迅速发展，薄膜科学和技术愈来愈 受到重视，其原因是薄膜的研究和开发对生产的贡献网益增大，薄膜科学研究成 果转化为生产力的速度愈来愈抉。今天，某一项新材料的研究与开发，徒往离不