光学溶解氧白皮书技术-mettlertoledo.pdfVIP

INGOLD : 用于溶解氧(DO) 测量的光学传感器采用了荧光猝 灭的原理。此项技术首先发表于1931 年，但却花费 了近 80 年的时间才真正用于过程分析传感器。与 吸收法相比，荧光法的光学氧测量并不属于直接 氧气测量。通过采用荧光，可测量氧气与另一种物 质的相互作用。有些能够吸收特定波长光线的分 子，可以在短暂延时之后释放所吸收的能量。这种 机制被称为荧光现象。荧光是发光的一种特别形 式，其中光的寿命具有不同特性。许多情况下均存 在发光现象。手表发光与钞票安全功能是日常生 活中的一些示例。 为了使用荧光测量液体中的溶解氧，必须确保氧 气与荧光物质接触，并对荧光释放产生影响。在 光学氧气传感器中，氧气能够渗入可渗透层，然后 扩散至荧光分子（染料）所在的基质。当无氧气存 在时，大部分的吸收能量会作为荧光释放。当存在 氧气时，氧气会与染料接触，这样它就能够吸收能 量，因此不会发出荧光。 规律下降。这种下降在Stern Volmer 方程中有描述。在现 代光学溶解氧系统中，Stern Volmer 图不可或缺。 1. 2. 3. O2 根据氧气浓度、温度或是否使用清洗溶剂等过程条 O2 件，氧气传感器的读数会显示漂移。对于电化学系统与 光学系统而言，理由各不相同。在电化学传感器中，电 : 解液或膜的逐步降解是最为重要的因素；在光学系统 1 中，可观察到其它变化。根据氧气浓度不同，我们发现 由于存在氧气，因此不仅会使荧光的光线强度减 生成有具有很高侵蚀性的单线态氧，这是一种能量较 弱，而且会缩短荧光的发光时间。这是因为染料处 高的亚稳态氧。这些氧自由基可与染料或母体基质发 于激发状态的时间越长，则与氧气接触的可能性 生