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法人家研究院家奈米元件室助化相沈系之程腔加器系修改招目次一明二明三硬格四程格收目五查文件六收七保固八履期限九疑人明本用於法人家研究院家奈米元件室助化相沈系到精控制奈米薄膜沈厚度均性到大面高均性奈米薄膜沈功能故本案程腔加器同行加之模控以符合低缺陷奈米薄膜沈其他如下述章定本如有任何疑依主解明助化相沈系腔加器均性不佳需作新品同行加器系之程控修改以改善加器形安的真空密封玻璃基板位及源更等械手臂送系用基板格尺寸尺寸之玻璃基板及其尺寸以下之玻璃基板晶等材料厚度硬格投商更改之部品符合或於以下所格新品加器乙相加
財團法人國家實驗研究院
國家奈米元件實驗室
『G1電漿輔助化學氣相沈積系統之
製程腔體加熱器系統購與計修改』
招標規範書
目錄 頁次
一、說明 3
二、設備明細 3
三、軟硬體規格 3
四、製程規格與驗收項目 4
五、審查文件 5
六、測試與驗收 5
七、保固 5
八、履約期限 6
九、規範書釋疑聯絡人 6
說明
本規範適用於財團法人國家實驗研究院國家奈米元件實驗室,電漿輔助化學氣相沈積系統為達到精準控制奈米級薄膜沈積厚度與均勻性,達到大面積(32x40cm2)與高均勻性奈米級薄膜沈積 (15 nm)功能,故本購案為購製程腔體加熱器並同進行加熱之模組控,以符合低缺陷奈米級薄膜沈積,
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