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- 2018-04-07 发布于北京
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常用半导体器件 1.ppt
放 大 条 件 内因:发射区载流子浓度高、 基区薄、集电区面积大 外因:发射结正偏、集电结反偏 3. 电流关系 IE = IC + IB IC = ? IB + ICEO IE = (1 + ?) IB + ICEO IE = IC + IB IC = ? IB IE = (1 + ? ) IB 4. 特性 iC / mA uCE /V 100 μA 80 μA 60 μA 40 μA 20 μA IB = 0 O 3 6 9 12 4 3 2 1 死区电压(Uth): 0.5 V (硅管) 0.1 V (锗管) 工作电压(UBE(on) ) : 0.6 ? 0.8 V 取 0.7 V (硅管) 0.2 ? 0.3 V 取 0.3 V (锗管) 饱 和 区 截止区 O 0.4 0.8 iB / ?A uBE / V 60 40 20 80 iC / mA uCE /V 100 μA 80 μA 60 μA 40 μA 20 μA IB = 0 O 3 6 9 12 4 3 2 1 放大区 饱 和 区 截止区 放大区特点: 1)iB 决定 iC 2)曲线水平表示恒流 3)曲线间隔表示受控 5. 参数 特性参数 电流放大倍数 ? ? ?
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