品质管理方法于微污染分析监控之应用.pdfVIP

2008 International Symposium of Quality Management, Kaohsiung, Taiwan 品質管理方法於微污染分析監控之應用 * 陳欣玫 張明偉 鄒瑞珍 冉菁菁 工業技術研究院影像顯示科技中心 * 論文聯絡人：陳欣玫 住址：新竹縣 310 竹東鎮中興路四段 195 號 15 館 115 室 電話：(03) 591-3223 傳真：(03) 591-3545 電子郵件信箱：SunnyChen@itri.org.tw 摘 要 在顯示技術快速發展下，許多創新性之計畫，皆需於本實驗室平台進行新材料之開 發與驗證，而為避免新材料投入所造成之製程交互污染疑慮，在本實驗室平台內建立一 套完整的微污染監控機制，藉由感應耦合電漿質譜儀 (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry; ICP-MS)及感應耦合電漿原子發射光譜儀 (Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometr; ICP-OES) 分析技術，針對研發過程所使用之相關設備與無 塵室環境進行取樣，監控研發環境中易造成元件異常之微金屬元素含量。同時運用品質 管理方法中之矯正及預防管理程序，消除異常與預防再發，以確保平面顯示研發平台之 製程環境品質。 關鍵字：微污染元素 (micro-contaminated elements) ，感應耦合電漿質譜儀 (Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry, ICP-MS) ，感應耦合電漿原子發射光譜儀 (Inductively Coupled Plasma Optical Emission Spectrometry, ICP-OES) ，矯正措施 (corrective action) ，預防措施 (preventive action) 。 1. 引言 隨著高科技產品之微細化、高純度及高潔淨的需求日益提昇，不管在新製程開發或 是製程良率提升之目標下，無塵室製程環境品質的控制 [1] ，都是最基本且最重要之一 環。尤其目前為因應各項計畫之執行，多項顯示器技術皆於平面顯示器這個共享實驗室 平台做開發與驗證，其中使用之製程材料不乏含有Fe, Ni, Al, Ti, Cu 等金屬成份。除滿 足材料科技進步的迫切需求外，為避免這些材料所造成之製程交互污染疑慮，特別於本 實驗室平台建立一套微污染元素分析方法與定期監控機制，來確保各計畫於本實驗室之 產出品質，使各項計畫順利平行展開，縮短研發時程與提升實驗室利用率。 - 1 - 2008 International Symposium of Quality Management, Kaohsiung, Taiwan 在微污染元素分析方法上，著重在易造成元件異常之金屬離子，檢測方式是分別利 用玻璃控片 (dummy sample) 與衝擊瓶 (impinger) 來採集設備內與環境空氣中之之金 屬濃度，再使用 ICP-MS 以不同質荷比去偵測玻璃控片及環境空氣之金屬含量 [2] ，另 使用以特定波長偵測金屬元素含量之 ICP-OES ，檢測放流水中之金屬含量 [3] 。 整個監控程序則分為二大階段，第一階段先進行先期檢測，先收集四次的檢測結 果，確認無製程污染疑慮後，訂定合理之離子濃度上限，再進入第二階段的例行性檢 測，針對新材料投入之製程，採取定期的污染監控。此時根據例行性的檢測結果來判定 是否符合規格上限，倘若發生不合格狀況 ，則會根據品質理系統之改善要求，依照不合 格 品及不符合狀況處理辦 法開立矯正或