晒版工艺过程4.ppt

* * 四、晒版工艺过程 工艺过程：晒前准备 → 装版→抽真空→曝光→显 影 →修版 →上胶 晒前准备 1.清洁版台 3.检查软片 1）无折痕划痕 2）干净无脏迹 3）图文完整 4）套色误差小于0.1mm 5）实地密度大于3.5 6）是否需要进行咬口定位拼版 2.打开晒版机、打开显影机让它们预热 PS版拆封PS版的拆封和取版应在安全光线下进行。取版时应连同衬纸一起取出；取用过程应防止划伤PS版涂层表面，对大幅面版材应两手对称拿住版材两边，用力一致，避免造成“马蹄印”和皱折。 装版 抽真空 以70L/cm40%--50%平网测出抽真空时间 两次抽真空曲线 曝光 1.主曝光 2.二次曝光 按测试的正确曝光时间进行曝光 方法1：用灰梯尺 曝光不足使阳图PS版网点扩大和上脏；曝光不足使阴图PS版网点缩小和耐印力下降。 曝光量对PS版的影响 曝光过度使阳图PS版网点缩小和耐印力下降；曝光过度使阴图PS版网点扩大。 调整级数：增加干净级数调整曝光量：增加曝光量调整多少级：增加两级调整曝光量的倍数：100×2=200计数单位若原曝光时间是100秒，由三级干净调整至五级干净，曝光时间由100秒增加到200秒。 版材使用有光强积分仪的晒版机，曝光100计数单位，三级干净。现要减少网点大小，调整灰梯尺再现级数，由三级干净调整至五级干净。 版材使用有光强积分仪的晒版机，曝光100计数单位，九级干净。现要增加网点大小，调整灰梯尺再现级数，由九级干净调整至十级干净。 方法步骤：调整级数：减少干净级数调整曝光量：增加曝光量调整多少级：减少一级调整曝光量的倍数：100×1.4=140计数单位若原曝光时间是100秒，由九级干净调整至十级干净，曝光时间由100秒增加到140秒 显 影 1）手工显影 1.显影类型 2）机器显影 （1）浸没式（浸槽式） （2）喷淋/毛刷式 注：定期维护冲洗机，保证显影稳定 显影液温度调在23±2℃ 显影液浓度（按说明书推荐的配比） 显影时间（按说明书推荐的时间，一般在40秒至1分钟 ） 2.影响显影质量的因素 3.显影原理： 4.显影剂的组成： 1)显影主剂(NaOH，Na2SiO3) 2)抑制剂(KCL，Na3PO4 ) 3)湿润剂 （十二烷基苯磺酸钠 磷酸三钠） 4)水 注意显影液的补充 显影液的疲劳主要是由于显影过程中有效成份的消失而引起的。其中，显影液长期吸收空气中的CO2也可导致疲劳。 修版 用细毛笔蘸少许影像消除剂（修版膏）涂于不需要的影像上，停留约45秒后，用软布擦去，并用水冲洗；需要去除的影像要去除彻底，否则版材容易上脏。 PS版在水洗后才能进行修版但应将PS版上的水擦干，否则，版材上多余的水会降低修版效果；在已经上保护胶的PS上进行修版，不容易将多余的影像去除干净。 1.化学除脏 在拼版时尽量将所拼的软片边缘用刀片轻轻刮薄，这样会更好的消除边线，因为大家知道软片是几乎透明的，那么边缘受外界环境的影响，如手摸使用的密度明显增加，容易形成边线。 化学除脏示意图 2.光学除脏 二次曝光的时间一般控制在总曝光量的15%--30% 请按保护胶生产厂家推荐的的比例，配制成保护胶液。 胶液太稀，版材上的保护胶层太薄，容易产生上脏或擦伤的情况。 上胶 胶液太稠，版材上的保护胶层太厚、严重不均匀，容易产生不着墨、龟裂和掉版现象（见图）。