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光刻机使用流程
光刻机使用流程
2013.10.9
王钦生 Cell Email：tsingson@pku.edu.cn
仪器型号：Neutronix‐Quintel Q4000
1、打开FFU，黄光灯。
2、检查记录，看光刻机是否正常，登记记录。
3、检查压缩空气开关，检查气压（80psi ）。
4 、打开真空泵。
5、打开光刻机。
6、打开汞灯
打开汞灯开关，按住“start”键2 秒以下（注意：超过3 秒汞灯将损坏！！！）。检查汞灯的
功率。如果汞灯从关机状态打开，需预热汞灯约 1~2 小时，如果从最低功率状态启动，
可不需要预热。
7、放置mask。按mask vacuum 吸住mask
8、Load wafer
9、选择曝光方式及曝光时间
Enter option 1 按“0”进入编辑。
10、 曝光 separate 下调节wafer 位置，按separate/contact 使contact 灯点亮， 按expose
进行曝光。
11、 Unload wafer
12、 看之后是否有人使用光刻机，如果长时间无人使用，关掉汞灯，如果短期内有人使
用，将汞灯功率调至最低。
独立使用光刻机时，请记录汞灯power 键上方开始使用，及结束使用时的时间值。
建议曝光时间5~6 秒。
更改光刻机参数时请将改动记录到记录本上，如曝光模式 时间等。
光刻机说明：
Power 键开关汞灯，start 键开汞灯（加击穿电压，如果按住超过3 秒汞灯将烧毁）最右边的
旋钮调节汞灯功率（不要超过350W，曝光完其他人还要使用时用来将power 调至最低）
调节曝光模式及曝光时间，关机
（如需真空曝光请联系mater，需要安装橡胶圈）
Power 键开机，head lock 锁定光刻机
Expose 曝光， mask vacuum 固定/取下 mask；clear 取消操作，使样品台回到初始位置；load
使样品台上升。
左边调节物镜聚焦； 中间键调节样品台；右边键调节contact/separate， contact 后曝光，
separate 调节样品对准。
On/off 开
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