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固体电子学(67,8章习题)f
习题讲解 PN结能级图 画出由p型半导体和金属构成的肖特基势垒在施加正向和反向电压的能带图,分别标出扩散流、漂移流、肖特基热电子电流的方向和相对大小。 热平衡状态下,电子浓度为: 电子电流正比于表面电子浓度 正向偏压下,电子浓度为: 故正向偏压下的净电流为: MIS能级图 ①在室温下,锗的有效状态密度Nc=1.05×1019cm-3,Nv=5.7×1018cm-3,试求锗的载流子有效质量mn*和mp*。计算77k时的Nc和Nv。已知300k时,Eg=0.67eV。77k时Eg=0.76eV。求这两个温度时锗的本征载流子浓度。②77k,锗的电子浓度为1017cm-3,假定浓度为零,而Ec-ED=0.01eV,求锗中施主浓度ND为多少? 计算含有施主杂质浓度ND=9×1015cm-3及受主杂质浓度为1.1×1016cm-3的硅在300k时的电子和空穴浓度以及费米能级的位置。 掺施主杂质的ND=1015cm-3n型硅,由于光的照射产生了非平衡载流子Δn=Δp=1014cm-3。试计算这种情况下准费米能级的位置,并和原来的费米能级做比较。 用强光照射n型样品,假定光被均匀地吸收,产生过剩载流子,产生率为gL,空穴寿命为?。 (1)写出光照下过剩载流子所满足的方程; (2)求出光照下达到稳定状态时的过载流子浓度。 在一个n型半导体样品中,过剩空穴浓度为1013cm-3, 空穴的寿命为100us。计算空穴的复合率。 画出p型半导体在光照(小注入)前后的能带图,标出原来的的费米能级和光照时的准费米能级。 室温下,p型半导体中的电子寿命为?=350us,电子的迁移率un=3600cm-2/(V?s)。试求电子的扩散长度。 * 空间电荷区内电势由 n?p区不断下降, 空间电荷区内电势能由n?p区不断升高, p区能带相对向上移, n区能带向下移,至费米能级相等, n-p结达平衡状态,没有净电流通过。 势垒高度:qVD = EFn—EFp x V(x) VD -xp xn x - ? ? - - ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? - - - - - - - ? ? ? ? ? ? qVD qVD x qV(x) 0 xn -xp 正偏压 n p + — E 内电场 外加电压 负偏压 n p + — E 内电场 高负偏压 n p + — E 隧道效应 内电场 金属-半导体接触 ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?S Wm WS EF EF n m Eo Wm Ws n半导体 EF ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? - - - - 金属 耗尽层 Wm - ?S Wm -WS=eV D En = 形成正的空间电荷区,,其电场的方向由体内指向表面,形成表面势垒,其内的电子浓度比体内小的多,称为高阻层。 Wm Ws Wm Ws ?S - Wm WS - Wm ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? Ef n En = 反阻挡层或积累层 熱平衡狀態 順向偏壓 逆向偏壓 (+) (-) (-) (+) 表面Ec与EF的距离 此式反向偏压也可使用,將VF改为-VR即可。 其中 A*成为有效Richardson 常數(A/K2-cm2),与有效质量有关,因为可产生热载流子发射的电子浓度在计算時会用到gc(E)(导带状态密度),故与m*有关。 热载流子发射下,电子净电流可表示为 其中 饱和电流密度(正向偏压時为正,反向偏压時为负) n型硅为110,p型硅为32; n型砷化鎵为8,p型砷化鎵为74。 表面势为负值时,表面处能带向上弯曲,,在热平衡状态下,半导体内费米能级为一定值,随着向表面接近,价带顶将逐渐移近甚至超过费米能级,同时,价带中的空穴浓度也随之增加,结果表面层内出现空穴的堆积而带正电。 表面空间电荷层 的三种状态(主要讨论p型半导体) 1)多数载流子堆积状态 - - - - - - - ? ? ? ? ? ? ? EF p 当表面势为正值时,表面处能带向下弯曲,越接近表面,费米能级离价带顶越远,价带顶空穴浓度随之降低,在靠近表面的一定区域内,价带顶比费米能级低的多,根据波尔兹曼分布,表面处空穴浓度将比体内浓度低的多。 2)多数载流子耗尽状态 - - - - - - - ? ? ? ? ? ? ? p 在2)的基础上,表面处能带进一步向下弯曲,越接近表面,表面处费米能级可能高于禁带中央能量,即,费米能级离导带
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