约束刻蚀剂层技能用于砷化镓三维规整细微图形的复制加工.pdfVIP

摘 要 约束刻蚀剂层技术用于砷化镓三维 规整微结构图形的复制加工 中文摘要 (微／纳米科学技术作为二十一世纪的关键高新技术之一，将导致人类认识和 ＼ 改造世界能力的重大突破。而具有强烈交叉学科色彩的微系统(或微机电系统， MEMs)可能迅速崛起和蓬勃发展，成为微／纳米科技中的核心之一。为充分发挥 微系统的功能和用途，需要制备较为复杂和高性能的微结构，因此必须发展和 建立新型的加工技术。适宜于微系统的新型的加工技术应能满足如下三方面的 要求：(1)能够加工复制出真正的超微复杂三维微加工图形或器件；(2)可批 量生产；(3)达到微／纳米尺寸。 Etchant 早在1992年，田昭武院士等就提出了约束刻蚀剂层技术(Confined LayerTechnique，简称cELT)，是一种具有距离敏感性及控制保留量等特点， 可用于三维超微(纳米)图形复制加工的新型技术，原则上它能同时满足上述 三方面的要求，即可实现分辨率在微米、纳米级的复杂三维微细图形的复制加 工。近十年来，我们实验小组不仅对cELT的