gh4169合金瞬时液相连接及后热处理工艺与机理分析-process and mechanism analysis of gh 4169 alloy transient liquid phase connection and post-heat treatment.docx
- 1、本文档共77页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多
gh4169合金瞬时液相连接及后热处理工艺与机理分析-process and mechanism analysis of gh 4169 alloy transient liquid phase connection and post-heat treatment
面结构的影响更为明显,改变工艺参数无法大量消除界面存在的化合物,接头强度低塑性差;低温连接/高温扩散接头无论从组织结构还是元素分布上都达到了高度均匀性,优于BNi2连接接头,此时接头延伸率超过50%。为了进一步优化连接质量,研究了后热处理对接头界面结构及力学性能的影响。热处理之后,BNi2连接接头的等温凝固区重新生成了Ni-Si-Nb三元化合物,自配钎料连接接头局部析出了少量Cr-Mo-Nb的硼化物,相比之下后者接头更加纯净。后热处理显著提升了低温连接/高温扩散接头强度,1050℃/60min+1180℃/60min(BNi2)接头室温抗拉强度为1130MPa,达热处理后母材的92.6%,延伸率为5%~7%,高温强度为850MPa,延伸率约5%,断裂在焊缝处;1150℃/60min+1185℃/60min(Ni-Cr-Fe-Si-B)接头室温抗拉强度为1075MPa,达到热处理后母材的93.8%,延伸率为10%,高温强度略低于前者接头,但断裂路径由焊缝扩展向母材,高温强度可达母材的95%以上,接头延伸率仍为10%左右。经过焊后热处理,上述两种接头的强度和延伸率都能达到课题要求。但采用自配Ni-Cr-Fe-Si-B钎料作中间层瞬时液相连接GH4169高温合金所得接头经热处理之后,界面微观组织更加纯净,且无论是室温还是高温综合力学性能都优于BNi2连接接头,因此自配的Ni-Cr-Fe-Si-B钎料更适合于完成本课题。关键词:GH4169高温合金;TLP连接;界面结构;抗拉强度;后热处理AbstractInordertomeetthedemandofactualprojectsubjectofbondinghollowturbin disks,transientliquidphasebondingofGH4169superalloyswascarriedoutinthis paper.RespectivelyusingBNi2interlayerandself-madeinterlayer,theinterfacial microstructure ofjointswasanalyzedbymeansofscanningelectronmicroscope (SEM),energydispersivex-ray detector(EDS)andX-raydiffractometer(XRD).The effectofparametersonmicrostructureandmechanicalpropertieswasinvestigated, andthemechanism oftransientliquidphase bondingofGH4169superalloywas discussed.Post-weldheattreatmentwascarriedoutonthejoints,andtheeffecton interfacialmicrostructureandmechanicalpropertieswasinvestigated.Theaffecting mechanismofpost-weldheattreatmentwasalsoanalyzed.TransientliquidphasebondingwascarriedoutwithBNi2interlayer.Interfacal microstructurewasmainlyanalyzed.Commonjointsconsisted ofisothermal solidificationzoneandprecipitatesdiffusionzone.SmallNi-Si-Nbternary precipitateswereobservedatthegrainboundariesnearthecenterline.Cr-richand Cr-Mo-Nbborideswithdifferentmorphologieswereobservedinthediffusionzone. Withincreasingthebondingtemperatureordiffusiontime,thesizeofNi-Si-Nb ternaryprecipitatesincreased.Theternaryprecipitatesbecamecontinuousandthe boridesbecamemoredisperse.Improvedprocessesweretriedtocontrolthereaction productsinthejoints.Manyprecipitatescouldbeseeninthehightemperature bonding/low
您可能关注的文档
- gbps sdh芯片接口模块的设计-design of gbps sdh chip interface module.docx
- gbvc对hivltr启动子活性的调控作用研究-study on the regulatory effect of gbvc on the activity of hiv ltr promoter.docx
- gc lc法在邻苯二甲酸酯 青霉素类药物和染料检测中的应用研究-application of gc lc method in the detection of phthalates penicillin drugs and dyes.docx
- ga辅助生长一维纳米结构的光 电 热性能研究-photoelectrothermal properties of ga - assisted growth of one-dimensional nanostructures.docx
- gbs cmos光接收机前端放大电路的设计-design of front-end amplifying circuit for gbs cmos optical receiver.docx
- gata3在哮喘大鼠肺组织中的表达及其对气道炎症的影响-expression of gata 3 in lung tissue of asthmatic rats and its effect on airway inflammation.docx
- ga对nbsi合金组织及力学性能的影响-effect of ga on microstructure and mechanical properties of nbsi alloy.docx
- gc3n4bi2s3和ag@c异质结构的合成及应用-synthesis and application of gc 3n4b i 2s3 and ag @ c heterostructures.docx
- gc3n4bi2moo6和cu2obivo4复合光催化剂的制备与应用研究-preparation and application of gc 3n4b i2 moo 6 and cu 2 obi vo 4 composite photocatalyst.docx
- gcb的应用分析及相关要素分析-application analysis of gcb and analysis of related factors.docx
最近下载
- 一种检测磷酸铁锂粉末中磁性金属异物及磷化铁含量的方法.pdf VIP
- 2023年华为公司招聘职位要求.pdf
- 三年级心理健康第1-16课全册教案.pdf
- 2021面瘫的针灸治疗测试题【附答案】.doc
- IATF16949第五版DFMEA管理程序+潜在失效模式及后果分析程序.doc
- 智慧城市大数据平台设计方案.pdf VIP
- 匹兹堡睡眠质量指数(PSQI)表格版-打印保健养生.docx
- 林木林地权属争议处理申请书(样本).pptx
- 手机销售网站的设计与实现.doc VIP
- 河南省图集 12YN6、12YN7、12YN9 热力工程、民用建筑空调与供暖冷热计量设计与安装 DBJT19-07-2012.docx
文档评论(0)