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毕业设计(论文)外文资料翻译 学 院： 材料科学与工程学院 专 业： 无机非金属材料科学与工程专业 姓 名： 闫智慧 学 号： 060604123 外文出处： ScienceDirect Ceramics International 35 (2009) 1877-1882 附 件： 1.外文资料翻译译文；2.外文原文。 指导教师评语： 签名： 年 月 日 附件1：外文资料翻译译文 低温下通过CVD法在SiC基底上沉积得到的无定形硼碳化合物涂层的微观结构和沉积机理 摘要SiC基底上通过化学气相沉积方法（CVD）以CH4/BCl3/H2/Ar为原料混合在低温（900-1050℃）和低压（10KPa）条件下制备出α-硼碳化合物涂层。沉积涂层是用扫描电子显微镜（SEM），X射线衍射（XRD），显微拉曼光谱，能量色散X射线能谱（EDS）和X射线光电子能谱（XPS）的方法表征的。结果表明，两种α-B4C涂层不同微观结构及相组成，而且沉积温度的影响显着。