电子显微分析2012上课PPT.ppt

路漫漫其修远兮，吾将上下而求索;Micron scale;The scale of natural and man-made structures; 电子显微分析——透射电子显微镜;1. 透射电镜的一般知识;600 kx;Ion polished commercial Al alloy;1.2 为什么要用TEM?;1.2 为什么要用TEM?;1.2 为什么要用TEM?;1.2 TEM的优点; 1.3 电子显微镜的发展历史 电子显微镜的出现是们探索事物发展的必然： 1.3.1 人眼的视觉和分辨率 1.3.2 光学显微镜的分辨率和有效放大 ;1.3.1 人眼的视觉和分辨率;人眼所能分辨的两个物点之间的距离在视网膜上成像的长度不能小于锥体细胞的直径，这两点间的最小距离即为人眼的分辨率（能力），正常人眼在明视距离（250mm）的分辨率是0.2mm. ;1.2.2 光学显微镜的分辨率和有效放大; 由于光学显微镜的NA的最大值不超过1.5。因此δ的最大值δ =0.45λ，因此光学显微镜的分辨率取决于我们所有光源光波的波长，而可见光的在400~700nm，所以其分辨率一般在250nm即2500?左右，其放大倍数最大只能是1000倍，可见，这是由于光的波长限制了光学显微镜的分辨率，即光的本性决定了光学显微镜的极限放大倍数为1000倍。 为提高显微镜的分辨能力。紫外光的波长（3900～130 ?）小于可见光，然而玻璃不易透过，短波光将被空气所吸收，短波紫外光显微镜必须用曲面镜成像并在真空中操作，而且其分辨能力最多只能提高5倍；X射线波长（100～0.5 ?），比紫外光更短，但X射线通过物体时不产生折射成像，只能通过投影方式成像，因而像的清晰度、放大倍数和分辨能力都受到极大的限制，达不到实用的目的。 ;1.3.3 TEM发展简史;1.3 近代TEM发展史上三个重要阶段;透射电镜主流品牌;德国的蔡司（Zeiss）;Libra200 ;日本电子（JEOL）;JEM-3100F;日立（Hitachi）;FEI;1. 3 各国代表人物;2.电子与固体试样的交互作用;透射电子;特征X射线;背景散射电子;3. 成像原理;两种工作模式;TEM;4.透射电镜的结构;4.1 电子光学部分;4.1.1照明系统;4.1.2 成像系统 --物镜;4.1.2 成像系统--物镜光栏;4.1.2 成像系统--物镜光栏;4.1.2 成像系统--中间镜;4.1.2 成像系统--投影镜;4.1.3 观察和记录系统 ;4.2真空部分; 4.3 电源与控制系统 ;5. 电子显微衬度像 ;5.1. 衬度（contrast）定义;5.2. 四种衬度;5.2. ???种衬度;5.2.1 质厚衬度;质厚衬度;质厚衬度的公式;5.2.2 衍射衬度;TEM衍衬分析必须的条件;High resolution transmission electron microscopy of BaTiFeO natural magnetic multilayers. The highly periodic Fe-rich layers (yellow) are separated by a Ba-rich phase (blue).;10.7 相位衬度—原子像;相位衬度—原子像;欠焦量和样品厚度对图像的影响;HRTEM Image of a T1 Precipitate Plate (one unit-cell thick)in an Al-Cu-Li Alloy ;相位衬度—原子像;相位衬度—原子像;10.8 原子序数衬度;原子序数衬度; ;6. 电子衍射物相分析;6.1电子衍射花样的形成 ;6.2 电子衍射的基本公式;6.3 各种结构的衍射花样;6.3 各种结构的衍射花样;6.3 各种结构的衍射花样;6.4 选区电子衍射;6.4 选区电子衍射;6.5 衍射花样分析;6.5.1多晶体结构分析;立方晶系中环的半径;立方晶系中环的半径;6.5.2 多晶衍射花样的标定;例如;6.5.2 单晶体结构分析;6.5.2.1已知晶体结构，确定晶面取向;例子;例子;6.5.2.2 对未知的结构，进行物相鉴定;6.5.2.2 对未知的结构，进行物相鉴定;6.5.2.3 标准花样对照法;6.5.3 复杂电子衍射花样; 超点阵花样;超点阵花样;高阶劳爱斑点;高阶劳厄带的特点;菊池衍射图;菊池线的产生机理;菊池线的几何特征;7.3透射电子显微分析样品制备;　要求： 　 TEM样品可分为间接样品和直接样品。 （1）供TEM分析的样品必须对电子束是透明的，通常样品观察区域的厚度以控制在约100~200nm为宜。 （2）所制得的样品还必须具有代表性以真实反映所分析材料的某些特征。因此，样品制