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[理学]X射线光电子谱XPS

X射线光电子谱(XPS) X-ray Photoelectron Spectroscopy 常用表面分析方法与用途 XPS、AES和SIMS是目前广泛使用的三种表面分析技术。XPS的最大特色在于能获取丰富的化学信息,对样品表面的损伤最轻微,定量分析较好。SIMS的最大特色是检测灵敏度非常高,并可分析H和He以及同位素,可作微区、微量分析以及有机化学分析。AES的最大特色是空间分辨力非常好,具有很高的微区分析能力,并可进行元素表面分布成像。 1. XPS: 优点:⑴ 可测除H、He以外的所有元素,无强矩阵效应。 ⑵ 亚单层灵敏度;探测深度1~20单层,依赖材料和实验参数。 ⑶ 定量元素分析。 ⑷ 优异的化学信息,化学位移和卫星结构与完整的标准化合物数据库的联合使用。 ⑸ 分析是非结构破坏的;X射线束损伤通常微不足道。 ⑹ 详细的电子结构和某些几何信息。 缺点:⑴典型的数据采集与典型的AES相比较慢,部分原因是由于XPS通常采集了更多的细节信息。 ⑵ 使用Ar离子溅射作深度剖析时,不容易在实际溅射的同时采集XPS数据。 ⑶ 横向分辨率较低,15μ(小面积),3μ(成像)。 2. AES 优点:⑴ 可测除H、He以外的所有元素;当涉及到价能级时矩阵效应大,并且某些电子背散射效应总是存在的。 ⑵ 亚单层灵敏度;探测深度1~20单层,依赖材料和实验参数。 ⑶ 快速半定量元素分析(精度比XPS低)。可同时Ar离子剖析。 ⑷ 可从化学位移、线形等得到某些化学信息,并可完全 解释。 ⑸ 优异的横向分辨率,20nm。具有很高的微区分析能力,并可进行表面成像。 缺点:⑴在许多情况下产生较严重的电子束诱导损伤。 ⑵ 化学位移等较难理解,缺乏提供化学信息的广泛数据库。 ⑶ 谱峰偶然重叠的机会比XPS大,这使得元素分析更不确定。 3. SIMS 优点:⑴ 对某些元素极其表面灵敏(10-6单层);在静态模式下探测深度限制在最顶单层。 ⑵ 可测所有元素,包括H和同位素识别。 ⑶ 较好的横向分辨(1μm)。 ⑷ 在动态模式下同时深度剖析。 ⑸ 在动态模式下具有探测掺杂级浓度的灵敏度动态范围的唯一技术。 ⑹ 相对强度的有限化学信息。 缺点:⑴ 内禀的结构破坏性。 ⑵ SIMS过程内禀的复杂性并未很好理解。主要问题是SIMS离子强度随化学和物理环境的变化有大量的可变性因素,这使得定量分析困难。 XPS ?? 引言 X射线光电子谱是重要的表面分析技术之一。它不仅能探测表面的化学组成,而且可以确定各元素的化学状态,因此,在化学、材料科学及表面科学中得以广泛地应用。 X射线光电子能谱是瑞典Uppsala大学K.Siegbahn及其同事经过近20年的潜心研究而建立的一种分析方法。他们发现了内层电子结合能的位移现象,解决了电子能量分析等技术问题,测定了元素周期表中各元素轨道结合能,并成功地应用于许多实际的化学体系。 XPS ?? 引言 K.Siegbahn给这种谱仪取名为化学分析电子能谱(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis),简称为“ESCA”,这一称谓仍在分析领域内广泛使用。 随着科学技术的发展,XPS也在不断地完善。目前,已开发出的小面积X射线光电子能谱,大大提高了XPS的空间分辨能力。 原理概述 XPS(x-ray photoelectron spectroscopy) 亦称为ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis) 进行表面分析的过程如下:用具有特征的软X射线 (常用MgKa-1252.6eV或AlKa-1486.6eV) 辐照固体样品,按动能收集从样品中发射的光电子,给出光电子能谱图(横坐标为结合能—BE,或动能—KE 表示。习惯上用前者;纵坐标为与结合能对应的光电子计数/秒,即N(E)—BE 上述软X射线在固体中的穿透距离大于1微米。在X射线路径途中,通过光电效应,使固体原子发射出光电子。这些光电子在穿越固体向真空发射过程中,要经历一系列弹性和非弹性碰撞,因此只有表面下一个很短距离(大约20唉)的 光电子才能逃逸出来。这一本质就决定了XPS是一种表面灵敏的分析技术。即通常所称的表面分析。入射的软X射线能电离出内层以上电子,并且这些内层电子的能量是高度特征性的,因此XPS可以用作元素分析。同时,由于这种能量受“化学位移”的影响,因而XPS也可以进

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