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TCS精馏--几个功能块 根据进入精馏工序的物料来源的不同,精馏工艺大致分为以下几个功能块: 1)合成料提纯; 2)还原回收料提纯; 3)氢化回收料提纯; 4)STC综合利用; 5)还可能有高低沸物的分离提纯 TCS精馏--几个功能块 合成料的含有多种杂质成分的混合液,特别是其中的硼化合物、磷化合物、有机硅化合物和低分子有机物等艰难范例的物质,它们与三氯氢硅的相对挥发度比较接近,分离系数接近1。因此,这部分物料需用较多级的精馏塔进行连续精馏才能得到合格的产品。过程主要包括:组分三氯氢硅和四氯化硅分离,硼、磷和金属杂质的分离,精馏提纯三氯氢硅和四氯化硅。 TCS精馏--几个功能块 还原回收料是由还原炉未反应的高纯三氯氢硅、反应副产物四氯化硅等氯硅烷冷凝液组成的混合物,其各种金属和非金属杂质含量较低。因此,还原回收料的提纯过程主要是分离三氯氢硅的四氯化硅,二氯二氢硅、硼、磷和金属杂质,其提纯工艺比合成料提纯工艺要简单一些,提纯塔的数量要少一些。 TCS精馏--几个功能块 四氯化硅的综合利用是指在回收利用精馏塔排出的废料液,其原料成分比较复杂,若对产品纯度要求不高时,只需对四氯化硅进行简单的提纯。提纯后的四氯化硅产品一部分不断地送回湿法除尘喷淋塔,一部分送至氢化炉进行四氯化硅氢化反应。目的是最大限度地减少硅氯等原料的消耗量。 TCS精馏--板式塔工艺计算步骤 1.物料衡算(手算) 目的:求解 aspen 简捷设计模拟的输入条件。 内容:(1) 组份分割,确定是否为清晰分割; ? ?? ?? ???(2)估计塔顶与塔底的组成。 得出结果:塔顶馏出液的中关键轻组份与关键重组份的回收率 TCS精馏--板式塔工艺计算步骤 2.用简捷模块(DSTWU)进行设计计算 目的:结合后面的灵敏度分析,确定合适的回流比和塔板数。 方法:选择设计计算,确定一个最小回流比倍数。 得出结果:理论塔板数、实际板数、加料板位置、回流比,蒸发率等等 RadFarce 所需要的所有数据。 TCS精馏--板式塔工艺计算步骤 3.灵敏度分析 目的:1.研究回流比与塔径的关系(NT-R),确定合适的回流比与塔板数。 ? ?? ?? ???2.研究加料板位置对产品的影响,确定合适的加料板位置。 方法:可以作回流比与塔径的关系曲线(NT-R),从曲线上找到所期望的回流比及塔板数。 得到结果:实际回流比、实际板数、加料板位置。 TCS精馏-板式塔工艺计算步骤 4. 用DSTWU再次计算 目的:求解aspen塔详细计算所需要的输入参数。 方法:依据步骤3得到的结果,进行简捷计算。 得出结果:加料板位置、回流比,蒸发率等等 RadFarce 所需要的所有数据。 TCS精馏-板式塔工艺计算步骤 5. 用详细计算模块(RadFrace)进行初步设计计算 目的:得出结构初步设计数据。 方法:用 RadFrace 模块的Tray Sizing(填料塔用PAking Sizing),利用第4步(DSTWU)得出的数据进行精确设计计算。 主要结果:塔径。 TCS精馏--板式塔工艺计算步骤 6. 核算 目的:确定工艺计算的最后结果。 方法:对第 5 步的计算结果(如:塔径等)按设计规范要求进行必要的圆整,用 RateFrace 或 RateFrace 模块的Tray Rating(填料塔用PAking Sizing),对塔进行设计核算。 结果:塔工艺设计的所有需要的结果。 简捷模块(DSTWU) RadFrac RateFrace RadFrac 合成料主要成分的物理性能 精馏过程的数学模型 1 描述精馏过程的基本方程组 对于每块塔板,描述精馏过程特性的基本方程组包括: 1)每个组分的相平衡关系式(E-方程) 2)每个组分的物料衡算方程式(M-方程) 3)塔板的热量衡算方程式(H-方程) 4)组分的摩尔分数加和方程式(S-方程) 5)气、液两相间的传质速率方程式(R-方程) 6)气、液两相间的流动与混合特性方程式(F-方程) 完整地描述精馏过程的数学模型为包括全塔各个塔板的MEFRSH方程组。 平衡级模型 2 精馏过程数学模型的分类 1)平衡级模型 1.1)基本假设 理论级假设:气、液两相间的热量和质量传递速率为无穷大,离开塔板的气相化合物与液相化合物之间处于相平衡------可以忽略R-方程; 全混级假设:塔板上的液体及塔板间的气体是完全混合的,具有均匀的压力、温度和组成-----可以忽略F-方程。 1.2)基本方程组-------MESH方程组 描述理论精馏塔的数学模型,即MESH方程组,称为平衡级模型。该模型求解方便,获得了广泛应用。但其两个基本假设都不完全合理,不能够真实地描述实际的精馏过程。 ASPEN

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