- 1、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。。
- 2、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档,如果想要下载,成为VIP会员后,下载免费。
- 5、成为VIP后,下载本文档将扣除1次下载权益。下载后,不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后,您将拥有八大权益,权益包括:VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传,每下载1次, 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等,对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
无机及分析化学 第八章 第九章 配位化合物与配位滴定Coordination Compound and Complexometry 9.1 配位化合物的基本概念 9.1.1 配位化合物的定义 9.1.2 配位化合物的组成 9.1.3 配位化合物的命名(一般原则) 小 结 金属离子的总副反应系数 溶液中同时存在两种配位剂:L,A 3. 配合物MY的副反应系数 计算:pH=9.00,cNH3=0.1mol·L-1时的lgK’ZnY Zn + Y ZnY NH3 OH- H+ Zn(NH3) Zn(OH) HY 滴定突跃 准确滴定判别公式: 考虑到浓度和条件稳定常数对滴定突跃的共同影响,用指示剂确定终点时, 若ΔpM=±0.2, 要求 Et≤0.1%, 则需lgcM·K’MY≥6.0 酸度控制 M+H2Y=MY+2H+ 需加入缓冲剂控制溶液pH。 常用金属指示剂 例 水硬度的测定: Ca2+、 Mg2+ lgKCaY=10.7 lgKCa-EBT=5.4 lgKMgY=8.7 lgKMg-EBT=7.0 在pH=10的氨性缓冲溶液中,EBT为指示剂,测Ca2+、 Mg2+总量; pH12,Mg(OH)2 , 用钙指示剂, 测Ca2+量 Problems: 在测定Ca2+、 Mg2+含量时,如果Mg2+含量很低,则会使得铬黑T指示剂终点变色不敏锐,如何解决这个问题? Mg2+与铬黑T(EBT)显色灵敏 Ca2+与铬黑T(EBT)显色不灵敏 加入少量的MgY2-不影响分析结果 Ca2+ + MgY2- CaY2- + Mg2+ Mg2+ + EBT Mg-EBT 蓝色 酒红色 滴定终点时, Y4- + Mg-EBT MgY2- + EBT 酒红色 蓝色 2. 返滴定法 在试液中先加入已知过量的EDTA标准溶液,用另一种金属盐类的标准溶液滴定过量的EDTA,根据两种标准溶液的用量和浓度,即可求得被测物质的含量。 返滴定法适用于下列情况: (1)采用直接滴定法,无合适指示剂,有封闭现象。 (2)被测离子与EDTA的络合速度较慢。 (3)被测离子发生水解等副反应,影响滴定。 例:Al3+的测定 3. 置换滴定法 利用置换反应,置换出等物质的量的另一金属离子或EDTA,然后滴定。 锡合金中Sn的测定 于含有Pb2+和Sn4+的溶液中加入过量的EDTA将Pb2+和Sn4+ 一起络合,用Zn2+标准溶液滴定过量的EDTA。然后加入NH4F选择性地把Sn从SnY中释放出来,再用Zn2+标准溶液滴定释放出来的EDTA,即可求得Sn的含量。 Sn的测定 被测M与Y的络合物不稳定 例 lgKAgY=7.3 lgKNiY=18.6 4. 间接滴定法 ⑴ 测非金属离子: PO43- 、 SO42- ⑵ 待测M与Y的络合物不稳定: K+、 Na+ 1. 用控制酸度的方法进行分别滴定 若溶液中含有金属离子M和N,它们都和EDTA形成配合物,而且KMY>KNY。当用EDTA滴定时首先被滴定的是M。 现在存在一个问题: 有N离子存在时,能否准确滴定M离子?(分别滴定) 要实现共存离子的分步测定(或称连续测定), 在相同pH,当cM=cN时; ΔlgKMY ≥6 可分步测定 当lgCMKMY ≥ 6,但是ΔlgKMY ≤6 消除滴定M时N的干扰,常利用掩蔽剂来掩蔽干扰离子,使它们不与EDTA配位,或者说,使它们的EDTA配合物的表观形成常数减至很小,从而消除干扰。常用的掩蔽方法有配位掩蔽法、沉淀掩蔽法和氧化还原掩蔽法。 1. 配位掩蔽法 利用干扰离子与掩蔽剂形成稳定的配合物以消除干扰的方法,称为配位掩蔽法。 ①先加掩蔽剂掩蔽N,再用EDTA滴定M 配位掩蔽法----加掩蔽剂(A),降低[N] ② 先加掩蔽剂掩蔽N,用EDTA滴定M,再用解蔽剂破坏N络合物,使N释放出来,再
您可能关注的文档
最近下载
- 四川省雅安市2023-2024学年八年级下学期期末考试数学试题.docx VIP
- 《客厅精细化设计》课件.ppt VIP
- 2025中国银行中银国际证券股份有限公司招聘8人笔试模拟试题及答案解析.docx VIP
- 脊柱结核术后护理.pptx VIP
- 行政法与行政诉讼法 试卷及答案 多项选择题(同名48525).doc VIP
- 地铁车站客伤处理.pptx VIP
- 2025活跃用户研究报告小红书平台.pdf VIP
- 丙烯腈催化剂产品技术标准要求2023年.docx
- 互联网传媒行业市场前景及投资研究报告:小红书,头部内容社区.pdf VIP
- 小学信息技术(信息科技)五年级全一册义务教育版(2024)合集.docx
文档评论(0)