Chapter09基因突变.pptVIP

2.自发的化学损伤(Spontaneous lesions) (1)脱嘌呤作用(Depurination) (2) 脱氨基作用(deamination) (3)氧化损伤(Oxidatively damaged bases) 　过氧化物原子团(O2-)、(H2O2)、(-OH)等需氧代谢的副产物都是有活性的氧化剂， 它们可导致DNA的氧化损伤，T氧化后产生T－乙二醇，G氧化后产生8-氧-7,8二氢脱氧鸟嘌呤、8-氧鸟嘌呤(8-O-G)或“ GO”，GO可和A错配，导致GC→TA。 3．其他因素 转座因子、环境因素、不等交换 (四)诱发突变的分子机制 Molecular basis of induced mutations 1.物理诱变因素及其诱变机理 (1)非电离辐射——紫外线(Ultraviolet) 作用：形成嘧啶二聚体，主要是Ｔ＝Ｔ，它使DNA分子扭曲，影响正常的复制和转录，严重时可致死。也可能使ＤＮＡ复制差错而诱发突变。 (2)电离辐射(Ionizing radiation)  主要有X射线、?射线、?射线、?射 线等。 直接作用：电离作用，引起ＤＮＡ骨架的 　　　　　断裂，从而造成染色体畸变。 间接作用：改变环境 　　　　　　　H2O [OH] + [H] Type of radiation