无掩模激光干涉光刻技术.docVIP

无掩模激光干涉光刻技术张彬（上海交通大学微纳科学技术研究院 微米/纳米加工技术国家级重点实验室 薄膜与微细技术教育部重点实验室， 上海 200030）摘要：干涉光刻技术集激光、干涉和衍射光学及光学光刻于一体，是国家自然科学基金资助的微细加工技术和微电子领域的前沿研究课题，对其进行系统的研究，对推进光学光刻极限，发展我国纳米微电子和光电子器件、新型大屏幕平板显示器和新型光刻机具有重要的科学意义和广阔的应用前景。本文基于光的干涉和衍射及光学全息照相理论，综合评述了光学光刻的基本原理、主要类型、发展趋势及开展激光无掩模干涉光刻和全息光刻研究的目的和意义。本文涉及的研究仅仅是干涉光刻研究的起步，为使干涉光刻技术的潜在能力在众多的领域中得到实际应用，更进一步的深入研究是十分必要的。 Abstract Interferometirc lithographic technology incorporates laser, interference optics, diffraction optics and optical lithography and it is a frontier research subject in microfabrication technology and microelectronic field sponsored by National Natural