Track Configuration和功能简介.docVIP

PAGE 72PAGE 11PHOTO EQ 新進同仁教育訓練教材PAGE 768PAGE 11PHOTO EQ 新進同仁教育訓練教材課程名稱:Track Configuration及功能簡介欲達之目標:期使新進同仁熟悉了解Track Configuration及功能撰寫者:白昆明 最後修訂者: 版本:1.0 編號:T-1內容：TRACK機台在黃光區最主要功能是將wafer(晶片)作光阻覆蓋,以備STEPPER(對準機)曝光. 接著將已曝光後之wafer予以developer顯影,使圖型能完全定義出.TEL MARK 7, MARK 8: TEL之TRACK機台在黃光區可分為兩種型式,MK-8, MK-7兩種,主要差異在MK-8上層有加裝filter(過濾器),所以各個controller(控制器)可放在機台上方,以節省空間.至於MK-7機台上方為開放式空間,所以各個controller(控制器)需放在機台下方.IN LINE與OFF LINE: 黃光TRACK機台又依是否和STEPPER連線,可分IN-LINE及OFF-LINE兩種.OFF-LINE又可再分coater(光阻覆蓋機),developer(顯影機),ADI rework scrubber(工程用刷洗機),及polyimide(聚乙醯韽).IN-LINE基本上可看成coater與developer合併.主機依功能區分: IN-LINE TRACK可分CARRIER STATION, PROCESS STATION, INTERFACE STATION三部份. OFF LINE TRACK可分CARRIER STATION, PROCESS STATION兩部份. CARRIER STATION:收放WAFER用.計有四個STAGE可下材料,及一組CARRIER STATION ARM用以傳送晶片. PROCESS STATION:1.IN LINE可分COATER UNIT (冷熱板,HMDS,COATER陷阱槽,MAIN ARM).DEVELOPER UNIT (冷熱板,DEVELOPER陷阱槽,WEE週邊曝光,MAIN RMM). 2.OFF LINE COATER只有冷熱板,HMDS,COATER陷阱槽,MAIN ARM.OFF LINE DEVELOPER只有冷熱板,DEVELOPER陷阱槽,MAIN ARM.POLYIMIDE有冷熱板,PI COATER, PI DEVELOPER, MAIN ARM.SCRUBBER有冷熱板,反轉機構,晶背刷洗(噴洗),正面刷洗(超音波震盪),MAIN ARM. INTERFACE STATION:為TRACK與STEPPER之介面,可分:冷板,BUFFER STAGE(暫存區),INTERFACE ARM. RAP附屬設施: IN LINE: CHEMICAL BOX (EBR及DEVELOPER自動供應系統), TEMPERATURE/HUMIDITY CONTROLLER(溫濕度控制器),MULTI CONTROLLER(冷板,CIRCULATOR控溫)TRANSFORMER(變壓器). OFF LINE COATER: CHEMICAL BOX (EBR自動供應系統), TEMPERATURE/HUMIDITY CONTROLLER(溫濕度控制器),MULTI CONTROLLER(冷板,CIRCULATOR控溫), TRANSFORMER(變壓器). OFF LINE DEVELOPER: HEMICAL BOX (DEVELOPER自動供應系統),MULTI CONTROLLER(冷板,CIRCULATOR控溫),TRANSFORMER(變壓器). ADI REWORK SCRUBBER: MULTI CONTROLLER,(冷板,CIRCULATOR控溫), TRANSFORMER(變壓器).至於CHEMICAL BOX則併在機台尾. POLYIMIDE: 只有TRANSFORMER(變壓器).至於CHEMICAL BOX則併在機台尾) 各UNIT之細部區分: CARRIER STATION(簡稱C