回转叶帮浦.PPT

* PECVD 反應室系統設計 ?真空封合 ?壓力控制 ?壓力量測 ?流量計校正 ?分氣盤(gas showerhead) ?接地電極(含substrate heater) ?RF電極(含匹配調整) ?壓力控制(downstream mode) * 商業化PECVD 系統 Concept Two?SEQUEL Express? Input Cassette Output Cassette Wafer Wafers Hander MultistationSequential Deposition Chamber Water-cooled Showerheads Resistively Heated Pedestal * High proportion of the total product use * 離子佈植機(Ion Implanter) 氣體櫃 電機系統 真空幫浦 離子源 電機系統 電漿泛注系統 真空幫浦 離子束 晶圓 終端分析儀 磁鐵分析儀 * 感應式耦合電漿蝕刻機 Process gases Source RF Process chamber RF coils Plas ma Wafer E-Chuck B