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- 2018-08-12 发布于湖北
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Ch7 逻辑模拟 电路模拟 时序分析的作用和必要性 器件模拟 工艺模拟 模块化设计 分层分级设计 全定制 标准单元库 母片 可测性设计 1 集成电路设计的特点(与分立元件电路的区别) 2 集成电路设计信息描述的方法 3 集成电路的基本设计流程 4 自顶向下(top—down)——分层分级设计 由底向上——人工版图设计 5 集成电路的设计规则是什么,有哪两种方法,对比其特点。 6 全定制设计方法 设计反相器的棍形图、掩模版图 设计二输入与非门、或非门的棍形图 7 SC法、BLL法、GA法和可编程逻辑电路设计法的特点以及区别 8 门阵列法(GA法) 掌握CMOS门阵列六单元管的结构并设计三输入与非门、或非门等基本电路 共价键 离子键 金属键 分子键 晶格的种类 缺陷的种类 点缺陷的种类 衬底材料的发展 化学气相淀积CVD 外延 正胶与负胶 钻蚀 替位式扩散和间隙式扩散 退火 1 比较常见的三种光刻方法的优缺点及适用范围。 2 集成电路制造工艺中制备二氧化硅最常用的两类方法是什么,分别适用于制备那种类型(六种)的二氧化硅层。 3 MOS集成电路标准场氧化隔离、局域氧化隔离和开槽回填隔离工艺。 4 CVD的常用方法有哪些?CVD方法能制备哪些薄膜
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