最新实验2 四探针法测量半导体电阻率和薄层电阻.pptVIP

☆扩散层的薄层电阻 半导体工艺中普遍采用四探针法测量扩散层的薄层电阻，由于反向PN 结的隔 离作用，扩散层下的衬底可视为绝缘层，对于扩散层厚度(即结深Xj)远小于探针 间距S，而横向尺寸无限大的样品，则薄层电阻率为： 实验原理 极薄样品，等间距探针情况 说明：样品为片状单晶，除样品厚度外，样品尺寸相对探针间距为无穷大，四 探针垂直于样品表面测试，或垂直于样品侧面测试 。 实际工作中，我们直接测量扩散层的薄层电阻，又称方块电阻，其定义就是 表面为正方形的半导体薄层，在电流方向所呈现的电阻，见下图。 所以 ： 因此有: 实验原理 实际的扩散片尺寸一般不很大，并且实际的扩散片又有单面扩散与双面扩散之 分， 因此，需要进行修正，修正后的公式为： 实验原理 不很大样品修正情况 本实验的测试装置主要由四探针头， 可调的直流恒流源， 电位差计和检流 计等组成。 对四探针头的要求是： 导电性能好， 质硬耐磨。针尖的曲率半径25-50μm， 四根探针要固定且等距排列在一条直线上， 其间距通常为1mm， 探针与被测样 品间的压力一般为20牛顿。 恒流源的输出电流要稳定且可调， 能提供从微安级到几十毫安的电流。 电位差计是采用补偿法测微小电压的仪器，其优点是当调节平衡后，测量线 路和被测线路间都无电流流过。 实验原理 School of Microelectronics Xidian University School of Microelectronics Xidian University kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg kkkkk ggggg 实验2 四探针法测量半导体电阻率和薄层电阻 实验目的和意义 ☆ 掌握四探针法测量电阻率和薄层电阻的原理及测量方法，针对不同几何 尺寸的样品，掌握其修正方法; ☆了解影响电阻率测量的各种因素及改进措施; ☆了解热探针法判断半导体材料的导电类型以及用阳极氧化剥层法求扩散层 中的杂质浓度分布。 实验原理 ☆电阻率的测量是半导体材料常规参数测量项目之一。 ☆测量电阻率的方法很多，如三探针法、电容---电压法、扩展电阻法等 ☆四探针法则是一种广泛采用的标准方法，在半导体工艺中最为常用，其主 要优点在于设备简单，操作方便，精确度高，对样品的几何尺寸无严格要求。 ☆四探针法除了用来测量半导体材料的电阻率以外，在半导体器件生产中广 泛使用四探针法来测量扩散层薄层电阻，以判断扩散层质量是否符合设计要求。 因此，薄层电阻是工艺中最常需要检测的工艺参数之一。 实验原理 ☆ 半导体材料的电阻率 在半无穷大样品上的点电流源， 若样品的电阻率ρ均匀， 引入点电流源的 探针其电流强度为I，则所产生的电力线具有球面的对称性， 即等位面为一系列 以点电流为中心的半球面，如图所示。在以ｒ为半径的半球面上，电流密度ｊ的 分布是均匀的： 若E为ｒ处的电场强度， 则： 实验原理 由电场强度和电位梯度以及球面对称关系， 则 取ｒ为无穷远处的电位为零， 则 实验原理 上式就是半无穷大均匀样品上离开点电流源距离为ｒ的点的电位与探针流过的电 流和样品电阻率的关系式，它代表了一个点电流源对距离ｒ处的点的电势的贡献。 对上图所示的情形，四根探针位于样品中央，电流从探针1流入，从探针4 流出， 则可将1和4探针认为是点电流源，由(2-6)式可知，2和3探针的电位为： 任意位置的四探针 实验原理 2、3探针的电位差为： 此可得出样品的电阻率为： 上式就是利用直流四探针法测量电阻率的普遍公式。 我们只需测出流过1、 4 探针的电流I以及2、3 探针间的电位差V23，代入四根