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植珠法反光布加工技术 中国纺织科学研究院 于范芹 【摘要】介绍了回归反射织物的用途，对植珠法反光布的加工工艺流程、结构和影响产品性能的加工工艺影响因素作了重点分析和讨论。 【关键词】回归反射 织物植珠法 影响加工工艺的因素 0.前言： 反光布作为安全功能性产品已广泛应用于交通、环卫、公安等特殊行业户外工作人员夜间作业的工作装。当其穿着和携带反光材料的人员在夜间工作或行走时，由于其回归反射的功能使驾驶员在远距离即可发现目标，从而避免事故的发生。对于普通百姓来说均有不同程度的夜间活动的时间，因此在其服装、鞋帽、包、雨具等加上反光布，可以提高自身的安全性。反光布提高安全性的程度以其反光强度衡量，反光强度越高，醒目效果越好，驾驶员发现目标的距离越远。因此，采用何种加工技术加工出反光强度高并满足穿着要求的反光布成为研究人员关注的问题，目前，反光布的制作方法有三种：涂珠法、植珠法、转移法。不同的方法有不同的加工路线及不同的化工原材料，其反光布的反光强度、手感、表观效果等有不同程度的差异。作为服装服饰用的安全功能性反光布除了要求具有较高的反光强度外，还必须保证穿着的要求如耐洗、耐磨、防水等。本文就植珠法反光布加工工艺技术作较详尽的讨论。 1.加工工艺： 1.1工艺流程： 植珠加工法是利用高压电产生强电场，使玻璃微珠带电而吸附于织物上的静电植珠方法：或将玻璃微珠均匀撒在涂有粘合剂的织物上的撒珠法；或通过玻璃微珠槽的粘珠法。工艺流程： 基布→前处理→施加反射层→涂粘合剂→植珠→后处理。 1.2植珠法反光布结构： 其结构示意图如图1-(a)、(b)所示： 植珠法反光布的表面和横断扫描电镜照片如图2所示： 图1结构示意图 图2扫描电镜照片 2.加工影响因素分析： 2.1基布的选择及其前处理的研究： 2.1.1基布的种类、规格及其制成的反光布的性能。 根据市场对反光布基布的使用要求，选用了纤维种类不同、纱支粗细不同，密度不同的三种织物作为基布进行了实验。基布的名称、规格及其布面风格列于表1中。 表1 不同基布的规格、风格比较 基布编号 基布名称 密度(根/10cm) 厚度(丝) 重量g/100cm2 纱支数s或d 布面风格 经 纬 经 纬 1 高密涤纶塔夫绸 436 298 8 0.64 68d 68d 布面紧密光洁平整 2 涤棉油平布 470 294 19 1.03 45s 45s 布面密致有纤维毛 3 纯棉中平布 262 218 26 1.3 20s 20s 纱支较粗孔较大布纹明显有纤维毛 织物是由经、纬纱线交织而成的，它们不可能象塑料膜那样平滑、无孔、即使像用化纤长丝制造的高密塔夫绸这种又紧密又平滑的织物，也存在有布孔和凹凸不平的问题，只不过是凹凸不平的程度较小而已。因此，基布处理使原有基布的经纬交织的凹凸、布孔以及伸出织物表面的纤维毛减小或减少，提高布面的平滑度。从而减少漫反射提高产品的反光强度、同时增加基材与后续材料的粘接性；此外，经过处理的织物还可以有效地防止涂层加工中的渗漏浆液现象，使基布与反射层的粘合性能得到改善，成品的耐摩擦及耐洗涤性能大大提高。不同基布采用不同的处理工艺(0-未处理、A、B、C、D)，其制作的反光布性能结果见表2。 从表2可以看出： (1)经处理后的基布制作的反光布，外观均匀、细腻，疵点少，微珠呈现水平排布；反光布上反光膜层的成膜性和坚牢度增强了，微珠耐洗牢度提高了，皮膜与基布的抗剥离性解决了，对表面粗糙的基布制作的反光布明显提高了Ｒ’值。 表2基布处理对制作的反光布性能的影响 实验编号 基布编号 工艺编号 反光布性能 厚度 重量 R’ 外观 洗涤10次 R10’ R保留% 剥离 1 1 0 15.5 2.119 194 均匀 173 89 剥离 2 1 A 16.3 2.830 205 均匀 177 86 未剥离 3 1 B 17.5 2.544 195 均匀 197 101 剥离 4 1 C 15.8 2.356 192 均匀 175 91 剥离 5 1 D 17.5 2.544 191 均匀 193 102 剥离 6 2 0 24.2 2.836 190 雪花点 175 92 未剥离 7 2 A 27.3 3.130 180 均匀 185 103 未剥离 8 2 B 26.0 3.112 188 均匀 177 94 未剥离 9 2 C 22.8 2.800 199 均匀 188 94 未剥离 10 2 D 24.3 2.980 193 均匀 184 95 未剥离 11 3 0 29.1 3.208 198 雪花点 183 92 未剥离 12 3 A 30.1 3.182 185 均匀 119 64 未剥离 13 3 B 31.6 3.480 207 均匀 189 91 未剥离 14 3 C 27.5 3.1