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STRUERS, SMES/PTCA CAS/FA Shanghai Symposium – 13 June 2007 第二届全国固体材料微观分析研讨会 电子显微分析技术的发展和应用 电子显微分析技术的发展和应用 陈世朴 上海交通大学材料科学与工程学院 上海市 华山路1954号(200030) Tel.: 021 Fax: 021 spchen@sjtu.edu.cn 金相检验(Metallography) 金相检验 Metallography • 材料工程 “ 四面体” 性能 ⇒ 产品及应用 组织结构 – 检验 材料制备 ⇒成份 加工处理工艺 • 新材料及新工艺研发 – 质量控制– 失效分析 质量控制– 失效分析 分辨率(Resolution) 理论极限 分辨率 理论极限 • 分辨率 - “像” 中可分辨的“物” 上 d0 最近两 “物点” 距离 Rayleigh 判据 Rayleigh 判据 d = 0.61 λ/ n sin α 0 • OM – 只能显示微米或亚微米的细节 • OM λ = 400 nm (紫), n ≈ 1.5 (油), min max α ≈75º, d ≈0.2 μm max 0 M d 0 • OM 有效放大倍率 • OM 肉眼可分辨 D = 0.2 mm M = D / d = 0.2 mm / 0.2 μm = 1,000 X eff 0 广义的金相学– “材相学” 广义的金相学– “材相学” - Materialography - - Materialography - • 材料组织结构的微观表征 (Microcharacterization) - 形貌 + 成份 + 结构 + (某些性能) - OM / Chemical analysis / XRD / (e.g. Microhardness) - 要求: 高 (空间) 分辨率 和 原位表征 • 电子显微学 (Electron Microscopy) - 1932 E. Ruska M. Knoll – TEM (透射电子显微镜) - 1938 M. von Ardenne – SEM (扫描电子显微镜) - 1951 R. Castaing – EPMA ( 电子探针微区成份分析仪) - 1986 E. Ruska - Nobel (物理) 奖 Nobel (物理) 奖 透射电子显微镜(Transmission E