GB/T 35309-2017用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程.pdf

ICS77.040 H 17 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT35309 2017 用区熔法和光谱分析法评价 颗粒状多晶硅的规程 Practiceforevaluationofranular olsiliconb g p y y melter-zonerandsectroscoies p p 2017-12-29发布 2018-07-01实施 中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 发 布 中 国 国 家 标 准 化 管 理 委 员 会 / — GBT35309 2017 前 言 本标准按照 / — 给出的规则起草的。 GBT1.1 2009 本标准由全国半导体设备和材料标准化技术委员会( / )与全国半导体设备和材料标准 SACTC203 化技术委员会材料分技术委员会( / / )共同提出并归口。 SACTC203SC2 : 、 、 本标准起草单位 江苏中能硅业科技发展有限公司 新特能源股份有限公司 天津市环欧半导体材 、 、 。 料技术有限公司 青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司 洛阳中硅高科技有限公司 : 、 、 、 、 、 、 、 、 、 、 本标准主要起草人 王桃霞 刘晓霞 耿全荣 鲁文锋 柳德发 胡伟 邱艳梅 银波 由佰玲 秦榕 严大洲。 Ⅰ / — GBT35309 2017 用区熔法和光谱分析法评价 颗粒状多晶硅的规程 1 范围 、 本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度 施主杂质浓度和受主 杂质浓度的方法。