最大实体要求下几何要素检验理论的分析-analysis of geometrical features test theory under maximum entity requirement.docxVIP

万方数据 万方数据 杭州电子科技大学硕士学位论文 指导教师签名： 日期： 年 月 日 杭州电 杭州电子科技大学硕士学位论文 摘 要 目前的产品测量技术主要针对公差独立原则下的基准要素建立的基准坐标体系，当被测 要素的基准遵循公差相关要求时，由于设计基准设定的边界尺寸与实际测量基准的轮廓不重 合，导致被测要素的设计设定基准与实际测量基准不统一，公差标准允许设计设定基准可以 相对于测量基准在两个边界尺寸之差的范围内的浮动，进而导致被测要素公差带也跟随浮动， 从而扩大了被测要素公差带的范围。对于复杂的基准布局，这一扩大范围目前还未有相应的 解决方法。为了解决这一问题，本文基于“几何要素控制点理论”和模拟基准要素的概念， 研究最大实体要求下几何公差基准参考框架的建立方法，并提出一个可行的计算法则来表示 基准偏差量对被测要素的补偿。 研究内容主要包括以下几方面： （1）模拟基准要素的建立方法。根据模拟基准要素的概念，利用 VC++ 6.0 开发平台编 写最大实体要求下模拟基准要素边界尺寸的计算函数，并将获得的边界尺寸存入对应的基准 信息链表。 （2）基准参考框架运动关系的构建方法。利用基准参考框架的概念和几何要素控制点理 论，建立最大实体要求条件下几何公差模拟基准要素相对于基准实际状态的浮动范围，进而 获得被测要素设计要求和实际测量条件下基准参考框架之间的运动关系，并用曲柄摇杆机构 等机构模型等价表示出这种运动关系。 （3）基准参考框架与被测几何公差带范围之间关系的分析方法。利用曲柄摇杆机构表示 基准参考框架运动关系的等价机构模型，用曲柄长度和摆杆摆角分别表示基准参考框架的偏 差量，其中曲柄长度就是被测目标要素的几何公差值的扩大量，而摆杆摆角则修改和扩大公 差带的形状。 本文通过 UG NX7.5 软件平台，利用 VC++ 6.0 软件和 UG 系统自带的实现 UG/Open API 二次开发功能模块实现计算机辅助公差设计的功能要求，以位置度公差的测量为实例，验证 当被测要素的基准遵循最大实体要求时，被测要素在设计条件下的基准参考框架对于被测要 素公差带的影响。 关键词：最大实体要求，模拟基准要素，基准参考框架 I ABSTRACT Under the datum of the measured elements subjected to the MMR/LMR, the border of design datum and measurement datum are not coincided, and resulted in the floating range of design datum can be resulted by the different borders. In order to solve these problems, based on geometry characteristice factor and the concept of datum refrence frame (DRF), a general representation and compensation method of datum’s deviations is proposed. The researched mainly include the following aspects: The establishment method of datum feature simulator. Based on the concept of datum feature simulator and VC++6.0, the calculation function of measured element’s DRF are established and stored in the information list of datum. The establishment method of movement relationship of the Datum Reference Frame. According to the concept of Datum Reference Frame and geometry characteristice factor, the relative position between the datum simulator at actual condition and the datum boundary at MMC/LMC is dedetermined, and the relative position between design DRF and measurement DRF are ob