GB/T 12964-2018硅单晶抛光片.pdf

ICS29.045 H 82 中华人 民共和 国国家标准 / — GBT12964 2018 代替 / — GBT12964 2003 硅单晶抛光片 Monocrstallinesilicon olishedwafers y p 2018-09-17发布 2019-06-01实施 国家市场监督管理总局 发 布 中国国家标准化管理委员会 / — GBT12964 2018 前 言 本标准按照 / — 给出的规则起草。 GBT1.1 2009 / — 《 》, / — , 本标准代替 GBT12964 2003硅单晶抛光片 与 GBT12964 2003相比 除编辑性修改外主 要技术变化如下: ——— , “ 修订了适用范围 将 本标准适用于直拉硅单晶研磨片经腐蚀减薄进行单面抛光制备的硅抛光 ” “ 、 ( ) 片 改为 本标准适用于直拉法 悬浮区熔法 包括中子嬗变掺杂和气相掺杂 制备的直径不大 。 、 、 , 于200mm的硅单晶抛光片 产品主要用于制作集成电路 分立元件 功率器件等 或作为硅 ”( , )。 外延片的衬底 见第 章 年版的第 章 1 2003 1 ——— , / 、 / 、 / 、 / 、 修订 了规范性 引用文件 删 除 了 GBT 1552 GBT 1554 GBT 1555 GBT 1558 / 、 / 、 / 、 / ,增加了 / 、 / 、 GBT13387GBT13388GBT14140GBT14143 GBT12965GBT19921 / 、 / 、 / 、 / 、 / 、 / ( , 见第 章 GBT24578GBT295