光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析-激光与红外.PDF

第４７卷　 第７期　 　　　　　　　　　　　　　　激 光 与 红 外 Ｖｏｌ．４７，Ｎｏ．７ 　 ２０１７年７月　　　 　 　　　　　　　　　　ＬＡＳＥＲ　＆　ＩＮＦＲＡＲＥＤ Ｊｕｌｙ，２０１７ 　　文章编号：１００１５０７８（２０１７）０７０８４２０６ ·光电技术与系统· 光刻照明系统中复眼透镜的设计及公差分析 １，２ ２ １ １ １ 李美萱 ，王美娇 ，王　丽 ，冷雁冰 ，董连和 （１长春理工大学，吉林 长春 １３００２２；２长春理工大学光电信息学院，吉林 长春 １３００１２） 摘　要：在超大规模集成电路中，为了实现ＮＡ＝１３５，波长１９３ｎｍ处分辨率达到４５ｎｍ的目 标，需要对影响光刻照明均匀性的误差源进行详细分析最终确定公差范围。复眼透镜是使光 束在系统掩膜面上形成矩形均匀照明区域的关键元件。采用ＣＯＤＥＶ软件设计了复眼透镜对 引起照明不均匀性的因素进行分析，结合复眼透镜组的设计方案和实际加工能力，给出Ｘ和Ｙ 向复眼曲率公差为±１０％，后组曲率公差为±５％，前后组间隔公差为±５０ ｍ，位置精度偏心 μ 公差为±１ ｍ，装配精度公差为±３ ｍ。制定公差合理、可行，满足了浸没式光刻照明系统高 μ μ 均匀性、高能量利用率的要求。 关键词：浸没式光刻；高均匀性照明；分辨率；光学设计；公差分析 中图分类号：Ｏ４３９　　文献标识码：Ａ　　ＤＯＩ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１００１５０７８．２０１７．０７．０１１ Ｄｅｓｉｇｎａｎｄｔｏｌｅｒａｎｃｅａｎａｌｙｓｉｓｏｆｃｏｍｐｏｕｎｄｅｙｅｌｅｎｓ ｉｎｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｌｉｇｈｔｉｎｇｓｙｓｔｅｍ １，２ ２ １ １ １ ＬＩＭｅｉｘｕａｎ ，ＷＡＮＧＭｅｉｊｉａｏ，ＷＡＮＧＬｉ，ＬＥＮＧＹａｎｂｉｎｇ，ＤＯＮＧＬｉａｎｈｅ （１ＣｈａｎｇｃｈｕｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙｏｆＳｃｉｅｎｃｅａｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｃｈａｎｇｃｈｕｎ１３００２２，Ｃｈｉｎａ； ２ＣｏｌｌｅｇｅＯｆＯｐｔｉｃａｌＡｎｄＥｌｅｃｔｒｏｎｉｃａｌＩｎｆｏｒｍａｔｉｏｎＣｈａｎｇｃｈｕｎＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ ｏｆＳｃｉｅｎｃｅＡｎｄＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙＣｈａｎｇｃｈｕｎ１３００１２，Ｃｈｉｎａ） Ａｂｓｔｒａｃｔ：Ｉｎｏｒｄｅｒｔｏｄｉｓｔｉｎｇｕｉｓｈ４５ｎｍｔａｒｇｅｔｉｎｔｈｅｖｅｒｙｌａｒｇｅｓｃａｌｅｉｎｔｅｇｒａｔｅｄｃｉｒｃｕｉｔｗｈｅｒｅｔｈｅｎｕｍｅｒｉｃａｌａｐｅｒｔｕｒｅｉｓ １３５ａｎｄｉｔｓｗａｖｅｌｅｎｇｔｈｉｓ１９３ｎｍ，ｉｔｉｓｎｅｃｅｓｓａｒｙｔｏａｎａｌｙｚｅｔｈｅｅｒｒｏｒｆａｃｔｏｒｓｗｈｉｃｈａｆｆｅｃｔｓｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙｌｉｇｈｔｉｎｇｕｎｉ ｆｏｒｍｉｔｙ，ａｎｄｅｖｅｎｔｕａｌｌｙｔｈｅｔｏｌｅｒａｎｃｅｒａｎｇｅｃａｎｂｅｄｅｔｅｒｍｉｎｅｄＳｉｎｃｅｔｈｅｃｏｍｐｏｕｎｄｅｙｅｌｅｎｓｃａｎｍａｋｅｔｈｅｌｉｇｈｔｂｅａｍ ｆｏｒｍｒｅｃｔａｎｇｕｌａｒｕｎｉｆｏｒｍｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎａｒｅａｏｎｔｈｅｓｕｒｆａｃｅｏｆｍａｓｋ，ｉｔｉｓａｋｅｙｃｏｍｐｏｎｅｎｔｉｎｔｈｅｌｉｇｈｔｉｎｇｓｙｓ ｔｅｍＴｈｒ