磁控溅射MoSiCN硬质薄膜的制备与性能-中国表面工程.PDF

第 23 卷 第 3 期 中 国 表 面 工 程 Vol.23 No.3 2010 年 6 月 CHINA SURFACE ENGINEERING June 2010 第 3 期 吕鹏辉等：磁控溅射MoSiCN 硬质薄膜的制备与性能 49 doi: 10.3969/j.issn.1007−9289.2010.03.020 磁控溅射 MoSiCN 硬质薄膜的制备与性能 1 2 2 3 4 吕鹏辉 ，倪浩明 ，崔 平 ，陈建敏 ，方前锋 (1. 中国科学院国家科学图书馆武汉分馆 中国科学院武汉文献情报中心，武汉 430071 ；2.