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真空镀膜(PVD)工艺介绍 真空镀膜(PVD)工艺知识介绍 编撰：张学章 拟订:张玉立 讲解:刘红彪 2010 01月20日 录 录 1. 空镀膜技术及设备发展; 2. 空镀膜的工艺基本流程; 3.真空镀膜的工艺特性; 4.真空镀膜工艺对素材的适镀性及要求; 5.真空镀膜工艺关键技术与先进性; 6.真空镀膜新工艺展示; 7.东莞劲胜精密组件股份有限公司PVD专利介绍； 前 言 真空镀膜行业兴起背景；随着欧盟RoHS指 令的实施及各国针对环保问题纷纷立法。传统 高污染之电镀行业已不符合环保要求，必将被 新兴环保工艺取代。而真空镀膜没有废水、废 气等污染，在环保上拥有绝对优势，必将兴起 并普及。 1： 空镀膜技术及设备发展 1. 制膜(或镀膜)方法可以分为气相生成法、 氧化法、离子注入法、扩散法、电镀法、 涂布法、液相生成法等。气相生成法又可 分为物 气相沉积法 （简称PVD法）化学气 相沉积法和放电聚合法等。 我们今天主要介绍的是物 气相沉积 法。由于这种方法基本都是处于真空环境 下进行的，因此称它们为真空镀膜技术。 1.1：真空镀膜技术及设备发展 2.物 气相沉积法依据制作过程工艺不同又分为真空蒸发镀膜、磁控溅 射镀膜和离子镀膜。 a.真空蒸发镀膜法：在真空室(镀炉)中加热蒸发容器中待形成薄膜的 原材料，使其原子或分子从表面气化逸出，形成蒸气流，入射到固体 (待镀产品)表面，凝结形成固态薄膜的方法。 真空镀膜法示意图 样品 公转 蒸发 高 空状态 自转 加热 空镀膜金属 电源回路 1.2：真空镀膜技术及设备发展 b.离子镀膜法：蒸发源的加热和真空镀膜法相同。由于系统为等 离子状态，使金属离子在样品表面吸附 成膜。金属离子为高能 使金属离子在样品表面吸附 成膜 量状态，成膜时具有离子结晶性佳、膜的密着性提高的优点。 结晶性佳 膜的密着性提高 离子镀膜法示意图 金属离子 样品 公转 蒸发 等离子状态 自转 加热 空镀膜金属 惰性气体 电源回路 1.3：真空镀膜技术及设备发展 c.溅射镀膜法：给 材施加高电压 （形成等离子状态），使正荷 使正荷 电气体离子撞击 材、金属原子飞弹，而在样品表面形成金属皮 电气体离子撞击 材、金属原子飞弹 膜的方法。 溅射镀膜法示意图